複合セラミックスおよびその製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高山宏志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000122547
Publication number (International publication number)：2001302338
Application date： Apr. 24, 2000
Publication date： Oct. 31, 2001
Summary：

【要約】【課題】適用する部材に適切な低熱膨張特性およびヤング率の組み合わせを得ることができる複合セラミックスおよびその製造方法を提供すること。低熱膨張性と高剛性とを兼備し、半導体製造装置、計測機器、精密機器などの構造部品に好適な複合セラミックスおよびその製造方法を提供すること。【解決手段】ユークリプタイトと窒化ケイ素および/または炭化ケイ素とからなり、室温でのヤング率が130GPa以上、10〜40°Cにおける熱膨張係数が-1×10-6/°C〜1×10-6/°C、または、室温でのヤング率が200GPa以上、10〜40°Cにおける熱膨張係数が2×10-6/°C以下である複合セラミックス。

Claim (excerpt)：

ユークリプタイトと窒化ケイ素および/または炭化ケイ素とからなり、室温でのヤング率が130GPa以上、10〜40°Cにおける熱膨張係数が-1×10-6/°C〜1×10-6/°Cであること特徴とする複合セラミックス。

IPC (3)：

C04B 35/19 , C04B 35/565 , C04B 35/584

FI (3)：

C04B 35/18 A , C04B 35/56 101 B , C04B 35/58 102 F

F-Term (19)：

4G001BA22 , 4G001BA32 , 4G001BA65 , 4G001BB22 , 4G001BB32 , 4G001BB65 , 4G001BC52 , 4G001BD05 , 4G001BD13 , 4G030AA02 , 4G030AA36 , 4G030AA37 , 4G030AA47 , 4G030AA52 , 4G030BA20 , 4G030BA24 , 4G030GA24 , 4G030GA27 , 4G030HA25

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平3-290352
低熱膨張セラミックスおよびその製造方法、並びに半導体製造用部品
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-234635 Applicant：京セラ株式会社
特開昭57-205373

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