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J-GLOBAL ID：200903018568183802

プラズマ成膜装置

Inventor：
北畠 裕也

About 北畠 裕也


Applicant, Patent owner：
積水化学工業株式会社

About 積水化学工業株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003351285
Publication number (International publication number)：2005116901
Application date： Oct. 09, 2003
Publication date： Apr. 28, 2005
Summary：
【課題】 各電極の対向面への膜付着を防止するとともに成膜効率を向上できるプラズマ成膜装置を提供する。【解決手段】 プラズマ成膜装置M1は、電界印加手段3に接続された電界印加電極31と、この電極31の下側に対向配置されるとともに接地された接地電極32を備えている。電界印加電極31は2つ有り、これらの間に、膜の原料を含む第1ガスを通す垂直な第1通路51が設けられている。各電界印加電極31と接地電極32の間に、膜の原料を含まない第2ガスを通す傾斜した第2通路52が設けられている。第1通路51の下流端と第2通路52の下流端は、互いに交差し、しかもこの交差部が吹出し口10aとなっている。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
電界印加手段に接続された電界印加電極と、 この電界印加電極と対向するとともに接地された接地電極と、 膜の原料を含む第1ガスを通す第1通路と、 前記電界印加電極と接地電極との間の電界印加空間を主要素として構成され、膜の原料を含まない第2ガスを通す第2通路と、 を備え、 前記第1通路の下流端と第2通路の下流端が互いに交差し、しかもこの交差部が、第1、第2ガスの吹出し口となっていることを特徴とするプラズマ成膜装置。
IPC (2)：
H01L21/205 ,  C23C16/50
FI (2)：
H01L21/205 ,  C23C16/50
F-Term (22)：
4K030AA06 ,  4K030AA17 ,  4K030BA29 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030EA05 ,  4K030EA06 ,  4K030FA03 ,  4K030JA04 ,  4K030KA15 ,  4K030KA17 ,  4K030LA15 ,  5F045AA08 ,  5F045AB03 ,  5F045AC01 ,  5F045AE29 ,  5F045BB08 ,  5F045DP03 ,  5F045DQ16 ,  5F045EE13 ,  5F045EF01 ,  5F045EH01
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)

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