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J-GLOBAL ID：200903018830770765

シリカゲル

Inventor： 勝呂 芳雄 ,  加藤 波奈子 ,  山口 隆 ,  吉森 孝幸
Applicant, Patent owner： 三菱化学株式会社
Agent (1)： 長谷川 曉司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001297457
Publication number (International publication number)：2003165717
Application date： Sep. 27, 2001
Publication date： Jun. 10, 2003
Summary：

【要約】【課題】 耐熱性、耐水性などに優れた新規なシリカゲルの製造方法を提供する。【解決手段】 シリコンアルコキシドを加水分解し、得られたヒドロゲルを実質的に熟成することなく水熱処理することを特徴とするシリカゲルの製造方法。

Claim (excerpt)：

以下の特徴を有するシリカゲル。(a)細孔容積が0.6〜1.6ml/g、(b)比表面積が300〜1000m2/g、(c)細孔の最頻直径(Dmax)が20nm未満、(d)Dmaxの±20%の範囲にある細孔の容積が全細孔容積の50%以上、(e)非結晶質であること、(f)金属不純物の含有量が500ppm以下。

F-Term (11)：

4G072AA28 ,  4G072BB13 ,  4G072CC10 ,  4G072HH30 ,  4G072MM01 ,  4G072RR05 ,  4G072TT05 ,  4G072TT08 ,  4G072TT09 ,  4G072TT19 ,  4G072TT30

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 高い比表面積とコントロールされた高構造性を有するシリカゲル及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-284958   Applicant：日本シリカ工業株式会社
• シリカゲルの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-185171   Applicant：日本シリカ工業株式会社
• 特開平4-193708