ポジ型レジスト組成物

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：諸石光▲ひろ▼ (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992037750
Publication number (International publication number)：1993232697
Application date： Feb. 25, 1992
Publication date： Sep. 10, 1993
Summary：

【要約】【目的】感度、解像度、耐熱性及び密着性等の諸性能のバランスに優れたポジ型レジスト組成物を提供する。【構成】アルカリ可溶性ノボラック樹脂、キノンジアジド化合物及び一般式(I)【化1】〔式中、Y1 〜Y10はこれらの中、少なくとも1つは水酸基を表わすという条件付きで、各々水素原子、水酸基又はアルキル基を表わし、Xは【化2】(R1 〜R3 は各々独立して水素原子又はアルキル基を表わす)を表わす。〕で示される化合物を含むこと、並びに、該アルカリ可溶性ノボラック樹脂中のポリスチレン換算分子量1000以下の成分のGPCにより測定したパターン面積が、未反応フェノール類を除く全パターン面積に対して30%以下であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性ノボラック樹脂、キノンジアジド化合物及び一般式(I)【化1】〔式中、Y1 〜Y10はこれらの中、少なくとも1つは水酸基を表わすという条件付きで、各々水素原子、水酸基又はアルキル基を表わし、Xは【化2】(R1 〜R3 は各々独立して水素原子又はアルキル基を表わす)を表わす。〕で示される化合物を含むこと、並びに、該アルカリ可溶性ノボラック樹脂中のポリスチレン換算分子量1000以下の成分のGPCにより測定したパターン面積が、未反応フェノール類を除く全パターン面積に対して25%以下であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (2)：

G03F 7/022 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

特開平3-228059
特開平3-142468
特開昭63-313150

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