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J-GLOBAL ID：200903019029210320
レジスト材料とその調製方法、及びレジストパターンの形成方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
石田 敬 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998096205
Publication number (International publication number)：1999295894
Application date： Apr. 08, 1998
Publication date： Oct. 29, 1999
Summary：
【要約】【課題】 高解像性、高感度、そして優れたドライエッチング耐性を有していて、特性の樹脂ロットごとのばらつきのない化学増幅型レジスト材料の提供。【解決手段】 少なくとも、脂環式炭化水素構造を含む保護基により保護されたアルカリ可溶性基を含有する第1のモノマー単位と、ラクトン構造を含む保護基により保護されたアルカリ可溶性基を含有する第2のモノマー単位との共重合により酸感応性共重合体を調製して基材樹脂とするに当たり、第1及び第2のモノマー単位のそれぞれに対応する単量体をそれらの単量体の消費量に応じて重合反応系に添加することによって共重合体を調製するように構成する。
Claim (excerpt)：
少なくとも下記の第1及び第2のモノマー単位:脂環式炭化水素構造を有する保護基により保護されたアルカリ可溶性基を含有しかつ前記アルカリ可溶性基が酸により脱離して当該共重合体をアルカリ可溶性とならしめる構造単位を有する第1のモノマー単位、及びラクトン構造を有する保護基により保護されたアルカリ可溶性基を含有しかつ前記アルカリ可溶性基が酸により脱離して当該共重合体をアルカリ可溶性とならしめる構造単位を有する第2のモノマー単位、の共重合により形成されたものである酸感応性共重合体と、放射線露光により酸を発生する酸発生剤とを含んでなる化学増幅型レジスト材料において、前記酸感応性共重合体が、前記第1及び第2のモノマー単位のそれぞれに対応する単量体をそれらの単量体の消費量に応じて重合反応系に添加することによって調製したものであることを特徴とする化学増幅型レジスト材料。
IPC (2)：
G03F 7/039 601
, H01L 21/027
G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
Cited by examiner (5)
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