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J-GLOBAL ID：200903090284548285
レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
石田 敬 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995312722
Publication number (International publication number)：1997090637
Application date： Nov. 30, 1995
Publication date： Apr. 04, 1997
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 実用可能な感度で、膨潤のない微細なレジストパターンを形成できるレジスト組成物の提供。【解決手段】 化学増幅型のレジスト組成物において、光酸発生剤とともにそれに含まれる酸感応性重合体が、次式(I)により表されるラクトン部分:(上式において、Rは、1〜4個の炭素原子を有する直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基を表し、置換もしくは非置換のいずれであってもよく、そしてnは1〜4の整数である)をカルボキシル基の保護基として含んでなるように構成する。
Claim (excerpt)：
モノマー単位の側鎖に保護基含有カルボキシル基を有する皮膜形成性の重合体であって、自体塩基性水溶液に不溶であり、但し、前記カルボキシル基の保護基が側鎖から脱離した場合、塩基性水溶液に可溶となり得る酸感応性重合体と、結像用放射線を吸収して分解すると前記カルボキシル基の保護基の脱離を惹起し得る酸を発生可能である光酸発生剤とを含んでなり、その際、前記酸感応性重合体が、次式(I)により表されるラクトン部分:【化1】(上式において、Rは、1〜4個の炭素原子を有する直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基を表し、置換もしくは非置換のいずれであってもよく、そしてnは1〜4の整数である)を前記カルボキシル基の保護基として含有することを特徴とする、塩基性水溶液で現像可能なレジスト組成物。
IPC (4)：
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/30
, H01L 21/027
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/30
, H01L 21/30 502 R
, H01L 21/30 569 F
Cited by examiner (6)
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