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J-GLOBAL ID：200903019064828337

断層撮影装置および断層撮影方法

Inventor：
森田 尚孝

About 森田 尚孝


Applicant, Patent owner：
株式会社島津製作所

About 株式会社島津製作所


Agent (1)： 杉谷 勉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006185388
Publication number (International publication number)：2008012027
Application date： Jul. 05, 2006
Publication date： Jan. 24, 2008
Summary：
【課題】全ての撮影角度において被検体の全体が視野からはみ出してしまう場合であっても、撮影によって収集される投影データに基づいて再構成される断層像に偽像が発生することを抑制することができる断層撮影装置および断層撮影方法を提供する。【解決手段】断層撮影装置は、本装置と異なるモダリティの別体機器によって予め取得された、CT画像を記憶する記憶部23と、X線の視野に被検体Mの全体が納まっていない撮影で収集された実投影データを不完全投影データとして、CT画像を参照してこの不完全投影データを補完処理する補完部25とを備えている。このため、実投影データが全て不完全投影データであっても補完処理を行うことができる。よって、再構成部27は、視野から被検体Mがはみ出すことに起因する偽像が抑制された断層像を得ることができる。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
被検体の関心領域の断層像を作成する断層撮影装置において、(1)X線を照射する照射手段と、X線を検出する検出手段と、少なくとも被検体の関心領域が視野に納まるように前記照射手段および前記検出手段を対向配置して回転させる回転手段と、を備えて、複数の撮影角度から被検体の撮影を行う撮像系と、(2)前記検出手段の検出結果から実投影データを収集する収集手段と、(3)本装置と異なるモダリティの別体機器によって予め取得された、少なくとも被検体の輪郭を識別できる参照情報を記憶する記憶手段と、(4)前記視野に被検体の全体が納まっていない撮影で収集された前記実投影データを不完全投影データとして、この不完全投影データを前記参照情報に基づいて補完処理する補完手段と、(5)前記補完手段から得られた補完投影データと、前記視野に被検体の全体が納まっている撮影で収集された実投影データとに基づいて再構成処理を行い、関心領域の断層像を作成する再構成手段と、を備えていることを特徴とする断層撮影装置。
IPC (2)：
A61B 6/03 ,  A61B 5/055
FI (2)：
A61B6/03 350R ,  A61B5/05 374
F-Term (17)：
4C093CA13 ,  4C093EC16 ,  4C093FC25 ,  4C093FC27 ,  4C093FC28 ,  4C093FF28 ,  4C096AA20 ,  4C096AB16 ,  4C096AB17 ,  4C096AB50 ,  4C096AD13 ,  4C096DA03 ,  4C096DA08 ,  4C096DB08 ,  4C096DB17 ,  4C096DB18 ,  4C096DB19
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (3)

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