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J-GLOBAL ID：200903019103541920

積層体の製造方法

Inventor：
飛鳥 政宏

About 飛鳥 政宏


Applicant, Patent owner：
積水化学工業株式会社

About 積水化学工業株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995114654
Publication number (International publication number)：1996304605
Application date： May. 12, 1995
Publication date： Nov. 22, 1996
Summary：
【要約】【目的】 基材上に反射防止効果および帯電防止効果の高い被膜が形成された、光透過率40%以上の積層体を容易に製造し得る方法を提供する。【構成】 基材の表面上に導電性を有する高屈折率層と、低屈折率層を、低屈折率層が最外層となるように、複層積層した積層体の製造方法であって、上記高屈折率層が、(a)特定のテトラアルコキシシラン化合物A(例、テトラエトキシシランル)と特定のアルコキシシラン化合物B(例、メチルトリメトキシシラン)とからなるシラン化合物混合物、(b)硝酸、(c)有機溶媒および(d)水からなる帯電防止被覆用組成物を塗布することにより得られる層からなることを特徴とする。
Claim (excerpt)：
基材の表面上に導電性を有する高屈折率層と、低屈折率層を、低屈折率層が最外層となるように、複層積層した積層体の製造方法であって、上記高屈折率層が、(a)下記の一般式[I]で表されるテトラアルコキシシラン化合物Aと、Si(OR)4 ・・・[I](式中、Rは炭素数1〜5のアルキル基)下記の一般式[II]で表されるアルコキシシラン化合物Bとからなるシラン化合物混合物、Ym Si(OR1 )4-m ・・・[II](式中、R1 は炭素数1〜5のアルキル基、YはOR1 以外の有機基、mは1〜3の整数)(b)硝酸、(c)有機溶媒および(d)水よりなる帯電防止被覆用組成物を塗布することにより得られる層からなることを特徴とする光透過率40%以上の積層体の製造方法。
IPC (3)：
G02B 1/11 ,  B05D 5/12 ,  C08J 7/04
FI (4)：
G02B 1/10 A ,  B05D 5/12 C ,  C08J 7/04 A ,  C08J 7/04 D
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (13)
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