ガス溶解水製造装置、およびその方法、超音波洗浄装置、およびその方法

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：宮川貞二 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001120828
Publication number (International publication number)：2002316027
Application date： Apr. 19, 2001
Publication date： Oct. 29, 2002
Summary：

【要約】【課題】溶解した溶解ガス3の濃度が飽和濃度以下のガス溶解水31を短時間で効率よく製造することのできるガス溶解水製造装置を提供する。【解決手段】溶解ガス3を被処理水4に溶解させて、ガス溶解水5とするよう構成されたガス溶解水製造装置1において、溶解ガスを、被処理水に溶解させる溶解部11と、溶解ガスを、溶解部に導く溶解ガス供給流路12と、被処理水を、溶解部に導く第1の被処理水供給流路13と、ガス溶解水を、溶解部から導くガス溶解水吐出流路14と、被処理水を、溶解部を通さずに導く第2の被処理水供給流路15とを備え、第2の被処理水供給流路がガス溶解水吐出流路に合流し、第2の被処理水供給流路によって導かれた被処理水が、ガス溶解水中の溶解ガス濃度を所定の濃度に希釈するよう構成される。

Claim (excerpt)：

溶解ガスを被処理水に溶解させて、ガス溶解水とするよう構成されたガス溶解水製造装置において;前記溶解ガスを、前記被処理水に溶解させる溶解部と;前記溶解ガスを、前記溶解部に導く溶解ガス供給流路と;前記被処理水を、前記溶解部に導く第1の被処理水供給流路と;前記ガス溶解水を、前記溶解部から導くガス溶解水吐出流路と;前記被処理水を、前記溶解部を通さずに導く第2の被処理水供給流路とを備え;第2の被処理水供給流路が前記ガス溶解水吐出流路に合流し、前記第2の被処理水供給流路によって導かれた前記被処理水が、前記ガス溶解水中の溶解ガス濃度を所定の濃度に希釈するよう構成される;ガス溶解水製造装置。

IPC (2)：

B01F 1/00 , B01F 15/04

FI (2)：

B01F 1/00 A , B01F 15/04 A

F-Term (5)：

4G035AA01 , 4G037BA03 , 4G037BC05 , 4G037BD04 , 4G037EA01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

液体中の溶存ガス濃度の調整装置及び調整方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-301779 Applicant：大日本インキ化学工業株式会社
超純水の炭酸ガス付加装置及び付加方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-130966 Applicant：大日本インキ化学工業株式会社
メガソニック洗浄装置及び方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-192596 Applicant：インターシルコーポレーション

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