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J-GLOBAL ID：200903019222366150

ポリマ硬化前駆体材料の熱源を有するプラズマリアクタ

Inventor： ケネス エス. コリンズ ,  マイケル ライス ,  デイヴィッド ダブリュー. グルーケル ,  ジェラルド ジェアウ イン ,  ジョン モーン ,  クレイグ エー. ロデリック ,  ダグラス ブクバーガー ,  チャン-ロン ヤン ,  エン-クイ ウォン ,  ジェフリー マークス ,  ピーター ケスウィック
Applicant, Patent owner： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
Agent (1)： 長谷川 芳樹 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997122676
Publication number (International publication number)：1998064882
Application date： May. 13, 1997
Publication date： Mar. 06, 1998
Summary：

【要約】【課題】 ポリマ強度の増加と捕集体からのシリコン除去速度の低減を図り、所望のエッチング選択性を得ること。【解決手段】 本発明の基本的な方法は、ポリマ硬化前駆体部品(例えばシリコン、炭素、炭化珪素又は窒化シリコン、ただしシリコンが望ましい)を、炭化フッ素又はフッ化炭化水素ガスによるエッチング処理中にリアクタチャンバ内に提供し、前記ポリマ硬化前駆体部品を加熱して重合温度を十分に上回るようにして、シリコンに対する酸化物のエッチング選択性の所望の増加をさせる。基本的に、ポリマ硬化前駆体すなわちシリコン部品が、リアクタチャンバ10の壁部12及び/又は天井部14と一体の一部分であっても、迅速に取外し可能な別体の消耗部品であってもよく、加熱/冷却装置はシリコン部品を伝導により又は遠隔方式により加熱する装置を含む任意の適当なタイプでもよい。

Claim (excerpt)：

プラズマエッチング処理の方法であって、前記プラズマエッチング処理を実行するためのチャンバを提供するステップと、前記チャンバ内の支持体上に、処理されるべき物品を支持するステップと、少なくともエッチャントとポリマ前駆体材料とを含む処理ガスを供給するステップと、前記処理ガスに加えて、シリコン又は炭素の原料物質を前記チャンバ内に提供するステップと、前記チャンバ内でプラズマを発生させるステップと、前記原料物質の加熱を十分に行い、前記原料物質の表面を前記プラズマと反応するように少なくとも維持するステップと、を備えることを特徴とする方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 電磁的に結合された平面プラズマ装置内の酸化物をエッチングするための改良されたプロセス
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-301967   Applicant：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
• 窒化物上の酸化物をエッチングするための選択性の改良
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-341780   Applicant：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド