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J-GLOBAL ID：200903019514077116

露光装置

Inventor：
高田 裕貴

About 高田 裕貴


Applicant, Patent owner：
ローム株式会社

About ローム株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996073029
Publication number (International publication number)：1997266150
Application date： Mar. 28, 1996
Publication date： Oct. 07, 1997
Summary：
【要約】【課題】 本発明は、露光工程における作業効率の改善と、費用の削減が可能な露光装置を提供することにある。【解決手段】 紫外線光源1と、シャッター2と、縮小投影レンズ5と、X-Yステージ6とを有しており、従来のレチクルに代わって制御装置9が配線11で接続された複数台の透過型表示装置8が設置されている。この制御装置9からの駆動信号により透過型表示装置8上に光を透過または遮蔽する領域が形成され、任意のマスクパターン3を実現することができる。そして、各透過型表示装置8にはセル単位毎に光ファイバー10が設けられており、この光ファイバー10によりマスクパターン3が縮小投影レンズ5に導かれることで、より高密度なマスクパターンが実現できる。
Claim (excerpt)：
紫外線光源から発生される光を縮小投影レンズを通して半導体ウエハ上に塗布された感光性材料に照射しマスクパターンを転写する露光装置において、駆動信号に応じて任意のマスクパターンを形成できる複数の透過型画像表示装置と前記複数の透過型画像表示装置を透過した光を縮小投影レンズに導く光ファイバーとを有することを特徴とする露光装置。
IPC (2)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (3)：
H01L 21/30 515 F ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)
  • 露光装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-303144   Applicant：株式会社日立製作所
  • 特開平2-000307
  • レーザ露光描画装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-011859   Applicant：ソニー株式会社

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