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J-GLOBAL ID:200903019709984959

低汚染性接着シ-ト類とレジスト材の除去方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000011094
Publication number (International publication number):2001055546
Application date: Jan. 20, 2000
Publication date: Feb. 27, 2001
Summary:
【要約】【課題】 被着体である基板などの物品の表面に有機汚染物質が残ることのない再剥離用としての低汚染性接着シ-ト類を提供する。【解決手段】 フイルム基材上に感圧接着性ポリマ-を主剤成分として含む接着剤層が設けられてなる再剥離用の接着シ-ト類において、上記感圧接着性ポリマーにはオリゴマー状の低分子量体が実質的に含まれていないようにすることを特徴とする低汚染性接着シ-ト類。
Claim (excerpt):
フィルム基材上に感圧接着性ポリマーを主成分として含む接着剤層が設けられてなる接着シート類において、上記感圧接着性ポリマーにはオリゴマー状の低分子量体が実質的に含まれていないことを特徴とする低汚染性接着シート類。
IPC (3):
C09J 7/02 ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/027
FI (3):
C09J 7/02 Z ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/30 572 Z
F-Term (13):
2H096AA25 ,  2H096JA04 ,  2H096LA06 ,  4J004AA10 ,  4J004AB01 ,  4J004AB07 ,  4J004CA02 ,  4J004CA04 ,  4J004CA06 ,  4J004CC02 ,  4J004FA04 ,  4J004FA05 ,  5F046MA11
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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