X線マスク、X線マスクの製造方法およびX線マスクの製造装置

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高田守 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995035131
Publication number (International publication number)：1996051066
Application date： Feb. 23, 1995
Publication date： Feb. 20, 1996
Summary：

【要約】【目的】寸法精度、位置精度に優れたX線マスクを製造し、それを用いてX線転写による高精度の回路パターンを得る。【構成】メンブレンの上方にX線吸収体、エッチングマスク、レジストの順に形成されたX線マスクにおいて、式dx/r≦de≦dl×a/100dx:X線吸収体の厚さr:X線吸収体に対するエッチングマスクの選択比dl:必要とされるX線吸収体のパターン寸法a:必要とされるX線吸収体のパターン精度(%)で決定したエッチングマスクの厚さdeを用いることにより、高精度なX線マスクを実現し、それを用いて、X線転写による高精度の回路パターンを得る。

Claim (excerpt)：

X線吸収体の上方に配置されたエッチングマスクとレジストを用いて前記X線吸収体のパターン形成を行うX線マスクの製造方法において、前記X線吸収体に対するエッチングマスクのエッチング選択比をr、エッチングマスクの厚さをde、前記X線吸収体の厚さをdx、必要とされるX線吸収体の、パターン寸法をdl、必要とされるX線吸収体のパターン精度をa(%)とすると、下記の式で記載される厚さdeを有するエッチングマスクを用いることを特徴とするX線マスクの製造方法。dx/r≦de≦dl×a/100

IPC (4)：

H01L 21/027 , G03F 1/08 , G03F 1/16 , H01L 21/3065

FI (3)：

H01L 21/30 531 M , H01L 21/302 H , H01L 21/302 F

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

特開平4-142023
X線マスク構造体、X線露光装置及びX線露光方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-027544 Applicant：キヤノン株式会社
特開昭63-120420

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