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J-GLOBAL ID:200903019752446090

パターン検査方法及び装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 作田 康夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000347443
Publication number (International publication number):2002148027
Application date: Nov. 09, 2000
Publication date: May. 22, 2002
Summary:
【要約】【課題】ウェハに打ち込んだイオンの影響や、パターン接続の有無、パターンエッジの形状などの影響による検出画像誤差を生じることなく画像を検出すること【解決手段】本発明によるパターン検査方法においては、対象物基板を撮像してディジタル画像を得、このディジタル画像を用いて予め座標データで登録した領域、又は予め登録したパターンと一致するパターンをマスクして欠陥を検出し、この検出した欠陥を表示するようにした又本発明によるパターン検査方法においては、対象物基板を撮像してディジタル画像を得、このディジタル画像を用いて欠陥を検出し、この検出した欠陥のうち登録した特徴に一致する欠陥の表示非表示を切替えるか他と識別可能なように表示するようにした。
Claim (excerpt):
対象物基板を撮像して該対象物基板のディジタル画像を得、該得たディジタル画像のうち予め登録した領域、又は予め登録したパターンと一致するパターンをマスクして欠陥を検出し該検出した欠陥の画像を該欠陥の前記対象物基板上の位置情報とともに出力することを検査する特徴とするパターン検査方法。
IPC (4):
G01B 11/24 ,  G01N 21/956 ,  G06T 1/00 305 ,  H01L 21/66
FI (4):
G01N 21/956 A ,  G06T 1/00 305 A ,  H01L 21/66 J ,  G01B 11/24 F
F-Term (54):
2F065AA49 ,  2F065AA56 ,  2F065BB02 ,  2F065BB03 ,  2F065CC20 ,  2F065CC25 ,  2F065FF04 ,  2F065FF42 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065MM03 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ38 ,  2G051AA51 ,  2G051AB07 ,  2G051CA11 ,  2G051DA01 ,  2G051DA05 ,  2G051EA14 ,  2G051EB01 ,  2G051EC01 ,  2G051ED01 ,  2G051ED21 ,  2G051FA01 ,  2G051FA04 ,  2G051FA10 ,  4M106AA01 ,  4M106BA02 ,  4M106CA39 ,  4M106CA50 ,  4M106DA15 ,  4M106DB04 ,  4M106DB05 ,  4M106DB20 ,  4M106DB21 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ21 ,  4M106DJ23 ,  5B057AA03 ,  5B057BA03 ,  5B057BA24 ,  5B057BA26 ,  5B057DA03 ,  5B057DA04 ,  5B057DA07 ,  5B057DB02 ,  5B057DB05 ,  5B057DB09 ,  5B057DC03 ,  5B057DC04 ,  5B057DC33
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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