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J-GLOBAL ID：200903019890964123

多重角度および多重波長照射を用いるウェハ検査システムのためのシステムおよび方法

Inventor：
ビーラーク,スティーブ

About ビーラーク,スティーブ

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ストッコウスキー,スタンレー イー.

About ストッコウスキー,スタンレー イー.

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ヴァエス-イラヴァニ,メディ

About ヴァエス-イラヴァニ,メディ


Applicant, Patent owner：
ケーエルエー-テンカー テクノロジィース コーポレイション

About ケーエルエー-テンカー テクノロジィース コーポレイション


Agent (1)： 井ノ口 壽
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2003507532
Publication number (International publication number)：2004531735
Application date： Jun. 26, 2002
Publication date： Oct. 14, 2004
Summary：
基板(428)の上部表面(426)上の異常を検出する方法であって、第1の波長を有する第1の放射ビーム(414)を垂線から測定した第1の角度で基板(428)の上部表面(426)に照射する工程と、第2の波長を有する第2の放射ビーム(418)を垂線から測定した第2の角度で基板(428)の上部表面(426)に照射する工程とを含み、第2の波長は第1の波長と等しくない。さらに、この方法は、粒子またはCOPの存在を検出して、その2つを区別するために、第1の放射ビーム(414)と第2の放射ビーム(418)とから散乱した放射を検出する工程とを含む。第1の放射ビーム(414)と第2の放射ビーム(418)から検出された散乱放射の差異から、粒子とCOPを区別するために必要なデータを得る。
Claim (excerpt)：
基板の上部表面上または前記基板の内部の異常を検出する方法であって、 第1の波長を有する第1の放射ビームを前記上部表面に対する垂線から測定した第1の角度で前記基板の前記上部表面へ照射する工程と、 第2の波長を有する第2の放射ビームを前記上部表面に対する垂線から測定した第2の角度で前記基板の前記上部表面へ照射する工程において、前記第2の波長が前記第1の波長に等しくならないようにする第2の放射ビームを照射する工程と、 前記第1の放射ビームから放射を検出する工程と、 前記第2の放射ビームから放射を検出する工程と、 を含むことを特徴とする基板の上部表面上または前記基板の内部の異常を検出する方法。
IPC (3)：
G01N21/956 ,  G01N21/84 ,  H01L21/66
FI (3)：
G01N21/956 A ,  G01N21/84 E ,  H01L21/66 J
F-Term (24)：
2G051AA51 ,  2G051AA56 ,  2G051AB01 ,  2G051AB06 ,  2G051AB07 ,  2G051BA01 ,  2G051BA04 ,  2G051BA05 ,  2G051BA08 ,  2G051BA10 ,  2G051BB01 ,  2G051BB03 ,  2G051CA02 ,  2G051CA03 ,  2G051CB05 ,  2G051CC12 ,  2G051CC20 ,  4M106AA01 ,  4M106BA05 ,  4M106BA07 ,  4M106CA38 ,  4M106DB02 ,  4M106DB08 ,  4M106DB21
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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