人工炭酸泉の製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：後田春紀
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006239855
Publication number (International publication number)：2008063236
Application date： Sep. 05, 2006
Publication date： Mar. 21, 2008
Summary：

【課題】炭酸泉や炭酸飲料用として、微細空気を水に巻き込み、ナノからマイクロオーダーの気泡径を発生させるナノまたはマイクロバブル発生装置を用いて、還元系を含めた人工炭酸泉の製造方法を提供する。【解決手段】微細空気を水に巻き込み、ナノからマイクロオーダーの気泡径を発生させるナノまたはマイクロバブル発生装置で、二酸化炭素ガスを水または温水に溶解させて、溶存二酸化炭素ガスの濃度を温泉法の炭酸泉の基準250ppm以上、好ましくは療養泉の基準1000ppm以上となる、水素混合二酸化炭素ガスや無隔膜電解装置との組み合わせにより還元系を含めた人工炭酸泉を製造する。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

微細空気を水に巻き込み、ナノからマイクロオーダーの気泡径を発生させるナノまたはマイクロバブル発生装置で、二酸化炭素ガスを水または温水に溶解させて、溶存二酸化炭素ガスの濃度を温泉法の炭酸泉の基準250ppm以上、好ましくは療養泉の基準1000ppm以上とするようにしたことを特徴とする人工炭酸泉の製造方法。

IPC (5)：

A61K 8/19 , A61H 33/02 , A61Q 19/10 , B01F 1/00 , C01B 31/20

FI (6)：

A61K8/19 , A61H33/02 A , A61Q19/10 , B01F1/00 A , B01F1/00 B , C01B31/20 Z

F-Term (18)：

4C083AB131 , 4C083AB132 , 4C083AB501 , 4C083AB502 , 4C083CC25 , 4C083EE41 , 4C094DD06 , 4C094GG03 , 4G035AA01 , 4G035AA06 , 4G035AE01 , 4G035AE13 , 4G146JA02 , 4G146JB04 , 4G146JC31 , 5H027AA02 , 5H027BA01 , 5H027DD00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

二酸化炭素溶存還元水およびその製造法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-269654 Applicant：大河内正一
燃料電池を用いた人工炭酸温泉施設
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-074392 Applicant：三菱マテリアル株式会社
生体水に類似する水およびその製造法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-346313 Applicant：有限会社アクアサイエンス, 伊東秀介

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