磁気抵抗効果ヘッドの製造方法

Inventor： , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高橋勇
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999272516
Publication number (International publication number)：2001028108
Application date： Sep. 27, 1999
Publication date： Jan. 30, 2001
Summary：

【要約】【課題】強磁性トンネル接合素子を用いた記録再生ヘッドの、作成途中におけるバリア層の破壊を防止し、ヘッド製造上の歩留まりが向上させること。【解決手段】フリー層106/バリア層105/固定層104を基本構成とするトンネル接合膜を用いた磁気抵抗効果ヘッドの製造工程において、フリー層106と固定層104との抵抗値を予め下げておき、後段階において磁気抵抗効果ヘッドとして使用するときの抵抗値に上げる。フリー層106と固定層104の抵抗値が低い間は、電流が流れやすくなるためにチャージアップが抑制されるので、バリア層105の絶縁破壊を防ぐことができる。

Claim (excerpt)：

フリー層、バリア層及び固定層からなるトンネル接合膜を有する磁気抵抗効果ヘッドを製造する方法であって、前記フリー層と前記固定層との間の抵抗値を前記磁気抵抗効果ヘッドとして使用する場合の抵抗値よりも小さく形成する第一の工程と、この第一の工程によって形成された前記抵抗値を前記磁気抵抗効果ヘッドとして使用する場合の抵抗値に増大させる第二の工程と、を備えた磁気抵抗効果ヘッドの製造方法。

F-Term (8)：

5D034BA03 , 5D034BA08 , 5D034BA15 , 5D034BA17 , 5D034BA21 , 5D034BB09 , 5D034CA07 , 5D034DA07

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

薄膜磁気ヘッドの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-338510 Applicant：株式会社日立製作所
薄膜磁気ヘッド
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-095493 Applicant：松下電器産業株式会社
磁気抵抗効果型磁気ヘッド及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-239941 Applicant：株式会社日立製作所

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