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J-GLOBAL ID：200903020522143550

微小開口を有する突起の製造方法と微小開口を有する突起、及びそれらによるプローブまたはマルチプローブ

Inventor：
島田 康弘

About 島田 康弘

, 
山崎 剛生

About 山崎 剛生


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (1)： 長尾 達也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997244803
Publication number (International publication number)：1999066650
Application date： Aug. 26, 1997
Publication date： Mar. 09, 1999
Summary：
【要約】【課題】本発明は、微小な開口を再現性良く形成することができ、また、基板上に集積化が容易で、複数の微小開口を形成したときに開口径のばらつきが小さく、バッチプロセスでの形成により生産性の高い、微小開口を有する突起の製造方法と微小開口を有する突起、及びそれらによるプローブまたはマルチプローブを提供することを目的としている。【解決手段】本発明の微小開口を有する突起の製造方法または微小開口を有する突起は、表面に先端部が先鋭化された形状を有する凹部が形成された第1基板を備え、該第1基板に形成された凹部の先端部を除いて遮光材料を堆積することによって、先端部に微小開口を有する遮光層からなる突起を形成し、該突起を第2基板に転写することを特徴とするものであり、また、本発明はそれらによって構成したプローブまたはマルチプローブを提供することを特徴とするものである。
Claim (excerpt)：
微小開口を有する突起の製造方法であって、表面に先端部が先鋭化された形状を有する凹部が形成された第1基板を備え、該第1基板に形成された凹部の先端部を除いて遮光材料を堆積することによって、先端部に微小開口を有する遮光層からなる突起を形成し、該突起を第2基板に転写することを特徴とする微小開口を有する突起の製造方法。
IPC (2)：
G11B 9/00 ,  G01N 37/00
FI (2)：
G11B 9/00 ,  G01N 37/00 E
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (4)
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