Pat

J-GLOBAL ID：200903020605591210

溶液の質量分析に関する方法と装置

Inventor： 平林 集 ,  平林 由紀子 ,  坂入 実 ,  高田 安章 ,  鍋島 貴之 ,  小泉 英明
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995229891
Publication number (International publication number)：1997082269
Application date： Sep. 07, 1995
Publication date： Mar. 28, 1997
Summary：

【要約】【目的】 ソニックスプレーイオン化法において、噴霧キャピラリーの近傍に電極を設置して液体に電界を印加し、液体を噴霧することにより、正または負イオンを高効率で生成する。【構成】 液体を大気中に噴霧させるキャピラリーと、該キャピラリー先端の近傍部位が挿入されて設置されるオリフィスであって、前記キャピラリーの外周壁面に沿って、ガスが前記キャピラリーの先端まで流れるようにしたオリフィスとを具備し、前記キャピラリーの先端近傍でのガス流速が音速程度であり、前記キャピラリー内の液体と前記オリフィスまたは前記キャピラリー近傍に設置された電極との間に電圧が印加されることを特徴とするイオン源。【効果】 液体の電位を接地電位に設定することができ、液体導入部に溶液分離手段を結合することが容易に実現する。また、電極に印加する電圧の極性に従い、生成されるイオンの極性を制御することができる。さらに、タンパクなどの質量の大きい物質の多価イオン等が高効率で再現性よく生成される。

Claim (excerpt)：

液体を所定の位置へ流すための流通路と、該液体を該流通路の少なくとも一部が絶縁体であり該絶縁体を介して電界を印加する電界印加手段と、前記電界が印加された液体の下流に配置され、前記液体を噴霧して帯電したガスを生成する噴霧手段を有することを特徴とするイオン源。

IPC (4)：

H01J 49/10 ,  G01N 27/447 ,  G01N 27/62 ,  G01N 30/72

FI (5)：

H01J 49/10 ,  G01N 27/62 G ,  G01N 27/62 X ,  G01N 30/72 G ,  G01N 27/26 331 J

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 質量分析計
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-039639   Applicant：株式会社日立製作所
• 質量分析計のイオン源
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-211857   Applicant：株式会社日立製作所