Pat
J-GLOBAL ID:200903020737500485
物理的刺激応答非水系組成物
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
下田 昭
, 赤尾 謙一郎
, 小山 尚人
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005127736
Publication number (International publication number):2006306912
Application date: Apr. 26, 2005
Publication date: Nov. 09, 2006
Summary:
【課題】 溶媒が揮発せずに開放系で実用可能な新規の物理的刺激応答非水系組成物を提供する。【解決手段】 アクリルアミドを骨格に有し、炭素数3〜18の分枝アルキル基が骨格に結合しているモノマーを重合してなる高分子体とイオン液体とを含み、モノマーを架橋剤を用いずに重合した線形高分子をイオン液体へ溶解した場合に、物理刺激に応じて線形高分子が相分離状態と溶解状態とに可逆的に変化する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
アクリルアミドを骨格に有し、炭素数3〜18の分枝アルキル基が前記骨格に結合しているモノマーを重合してなる高分子体とイオン液体とを含み、前記モノマーを架橋剤を用いずに重合した線形高分子を前記イオン液体へ溶解した場合に、前記物理刺激に応じて当該線形高分子が相分離状態と溶解状態とに可逆的に変化する物理刺激応答非水系組成物。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (4):
4J002BG131
, 4J002EN136
, 4J002GR00
, 4J002HA01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
-
高分子アクチュエータ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-357805
Applicant:ソニー株式会社
-
温度応答型ハイドロゲル
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-359388
Applicant:ユニチカ株式会社
-
熱可逆ハイドロゲル形成性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-293528
Applicant:メビオール株式会社, 森有一
Cited by examiner (6)
-
光学材料およびそれを用いた光学素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-349902
Applicant:富士ゼロックス株式会社
-
高分子ゲル組成物およびその製造方法、並びにそれを用いた光学素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-297175
Applicant:富士ゼロックス株式会社
-
光変調材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-062938
Applicant:富士ゼロックス株式会社
-
電解質組成物、光電変換素子及び光電気化学電池
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-207440
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
電解液およびそれを用いた電気化学素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-212785
Applicant:松下電器産業株式会社, 三洋化成工業株式会社
-
高分子化合物複合体及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-071208
Applicant:三菱化学株式会社
Show all
Article cited by the Patent:
Return to Previous Page