製品歩留まり予測用のシステムおよび方法

Inventor： , , , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：田中浩
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2001537527
Publication number (International publication number)：2004505433
Application date： Nov. 17, 2000
Publication date： Feb. 19, 2004
Summary：

集積回路の歩留まりを予測するためのシステムおよび方法は、最終的な集積回路製品に組み込むべき少なくとも1つのタイプのフィーチャを表す少なくとも1つのフィーチャを組み込む、少なくとも1つのタイプの特徴付けビヒクルを含む。この特徴付けビヒクルは、歩留まりモデルを生成するために、集積回路製品を製造する際に使用すべき製造サイクルを構成するプロセス・オペレーションのうちの少なくとも1つを受ける。この歩留まりモデルは、特徴付けビヒクルによって定義されるレイアウトを実施し、好ましくは、動作速度での電気的テスト・データの収集およびプロトタイプ・セクションのテストを容易にするフィーチャを含む。抽出エンジンは、提案される製品レイアウトから所定のレイアウト属性を抽出する。歩留まりモデルに対して操作して、この抽出エンジンは、レイアウト属性と、層または製造プロセスのステップごとの破壊に応じて歩留まり予測を生成する。次いでこれらの歩留まり予測を使用して、製造プロセス中のどのエリアを最も改良する必要があるかを判定する。

Claim (excerpt)：

a)最終的な集積回路製品に組み込むべき少なくとも1つのタイプのフィーチャを表す少なくとも1つのフィーチャを含む、少なくとも1つのタイプの特徴付けビヒクルと、 b)特徴付けビヒクルによって定義されるレイアウトを実施する歩留まりモデルであって、集積回路製品を製造する際に使用すべき製造サイクルを構成する、少なくとも1つのプロセス・オペレーションを受けた歩留まりモデルと、 c)製品レイアウトと、 d)製品レイアウトから所定のレイアウト特性を抽出するための抽出エンジンであって、その特性が歩留まりモデルと共に使用されて、歩留まり予測が生成される抽出エンジンとを備える、集積回路の歩留まりを予測するためのシステム。

IPC (2)：

H01L21/00 , H01L21/02

FI (2)：

H01L21/00 , H01L21/02 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

歩留り予測装置とその方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-306035 Applicant：日本テキサス・インスツルメンツ株式会社
特開昭54-053864
薄膜状半導体およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-119287 Applicant：鐘淵化学工業株式会社

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