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J-GLOBAL ID：200903021095295480

リソグラフィー用下地材

Inventor：
井口 悦子

About 井口 悦子

, 
佐藤 充

About 佐藤 充


Applicant, Patent owner：
東京応化工業株式会社

About 東京応化工業株式会社


Agent (1)： 阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997343436
Publication number (International publication number)：1998228113
Application date： Dec. 12, 1997
Publication date： Aug. 25, 1998
Summary：
【要約】【課題】 基板からの反射光を十分に抑制し、優れた反射防止効果を示すとともに、段差基板に対するコンフォーマル性及び塗布性能がよく、しかも昇華物の発生しにくいリソグラフィー用下地材を提供する。【解決手段】 (A)ヒドロキシアルキル基又はアルコキシアルキル基あるいはその両方で置換されたアミノ基を少なくとも2個有する含窒素化合物の中から選ばれた架橋剤、(B)少なくとも1個の水酸基を有するビスフェニルスルホン類及びベンゾフェノン類の中から選ばれた少なくとも1種のヒドロキシ化合物とアクリル酸又はメタクリル酸とのエステルを単量体の少なくとも一部として用いて得た重合体又は共重合体及び場合により(C)高吸光性物質を含有してなるリソグラフィー用下地材である。
Claim (excerpt)：
(A)ヒドロキシアルキル基又はアルコキシアルキル基あるいはその両方で置換されたアミノ基を少なくとも2個有する含窒素化合物の中から選ばれた架橋剤及び(B)少なくとも1個の水酸基を有するビスフェニルスルホン類及びベンゾフェノン類の中から選ばれた少なくとも1種のヒドロキシ化合物とアクリル酸又はメタクリル酸とのエステルを単量体の少なくとも一部として用いて得た重合体又は共重合体を含有することを特徴とするリソグラフィー用下地材。
IPC (6)：
G03F 7/11 503 ,  C09D 5/00 ,  C09D133/04 ,  G03F 7/004 506 ,  H01L 21/027 ,  C08F 20/10
FI (6)：
G03F 7/11 503 ,  C09D 5/00 M ,  C09D133/04 ,  G03F 7/004 506 ,  C08F 20/10 ,  H01L 21/30 574
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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