露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高梨幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997150074
Publication number (International publication number)：1998326742
Application date： May. 23, 1997
Publication date： Dec. 08, 1998
Summary：

【要約】【課題】物体面上に形成されているアライメントマークの位置を精密に測定し、微細な電子回路パターンを逐次作成する際に好適な露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を得ること。【解決手段】レジストを塗布した被露光物体面上に露光光を照射して、その面上にパターンを形成する露光装置において該露光光として近接場光を用いていること。

Claim (excerpt)：

レジストを塗布した被露光物体面上に露光光を照射して、その面上にパターンを形成する露光装置において該露光光として近接場光を用いていることを特徴とする露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (2)：

H01L 21/30 529 , G03F 7/20 521

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

光リソグラフィ方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-249138 Applicant：株式会社日立製作所
走査型近視野原子間力顕微鏡、及びその顕微鏡に使用されるプローブ、及びそのプローブの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-052248 Applicant：セイコー電子工業株式会社
レーザ描画装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-052360 Applicant：オリンパス光学工業株式会社

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