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J-GLOBAL ID：200903021177836780

陰画調レジスト像の作製方法

Inventor：
ロバート・デービッド・アレン

About ロバート・デービッド・アレン

, 
グレゴリー・マイケル・ウォールラフ

About グレゴリー・マイケル・ウォールラフ


Applicant, Patent owner：
インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション

About インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション


Agent (1)： 合田 潔 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996022341
Publication number (International publication number)：1996250416
Application date： Feb. 08, 1996
Publication date： Sep. 27, 1996
Summary：
【要約】【課題】 深紫外線光を使用して、陰画調レジスト像を作製する方法を提供する。【解決手段】 この方法は、(1)基板を、(i)ポリマーと(ii)感光性酸生成剤と、(iii)酸に不安定な基とを含む、臨界流体に可溶なポリマー組成物のフィルムで被覆するステップと、(2)フィルムを放射線でイメージに従って露光して、フィルムの露光部分を不溶化するステップと、(3)イメージを臨界流体で現像するステップとを含む。使用済みの臨界流体は、その温度と圧力を常温常圧にすると、溶け込んでいたポリマー組成物の溶解度が下がり、沈澱させることができるので、再生して使用することができる。
Claim (excerpt)：
(a)(i)ポリマーと、(ii)感光性酸生成剤と、(iii)酸に不安定な基とを含むポリマー・フィルムで基板を被覆するステップと、(b)前記フィルムを放射線で像に従って露光し、前記フィルム中に遊離酸を生成させるステップと、(c)臨界流体で前記像を現像するステップとを含む、陰画調レジスト像を作製する方法。
IPC (3)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/039 501 ,  G03F 7/32
FI (3)：
H01L 21/30 562 ,  G03F 7/039 501 ,  G03F 7/32
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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