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J-GLOBAL ID：200903021250670918

オゾン水供給装置

Inventor：
大澤 公伸

About 大澤 公伸

, 
三輪 良平

About 三輪 良平


Applicant, Patent owner：
栗田工業株式会社

About 栗田工業株式会社


Agent (1)： 内山 充
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998209402
Publication number (International publication number)：2000037695
Application date： Jul. 24, 1998
Publication date： Feb. 08, 2000
Summary：
【要約】【課題】電子材料のウェット洗浄工程などにおいて、オゾン水中のオゾンの自己分解が抑制され、オゾン水を長距離移送しても、移送中におけるオゾン濃度の低下が少なく、ユースポイントに一定した濃度のオゾン水を供給することができ、しかもオゾンの消費量を低減することができるオゾン水供給装置を提供する。【解決手段】純水にオゾンを溶解させてオゾン水を生成するオゾン水溶解装置と、生成したオゾン水を移送するオゾン水供給配管を有するオゾン水供給装置であって、純水又はオゾン水に、炭酸ガス又は有機化合物を溶解させる添加手段を設けてなることを特徴とするオゾン水供給装置。
Claim (excerpt)：
純水にオゾンを溶解させてオゾン水を生成するオゾン水溶解装置と、生成したオゾン水を移送するオゾン水供給配管を有するオゾン水供給装置であって、純水又はオゾン水に、炭酸ガス又は有機化合物を溶解させる添加手段を設けてなることを特徴とするオゾン水供給装置。
IPC (4)：
C02F 1/78 ,  B08B 5/00 ,  H01L 21/304 647 ,  H01L 21/304 648
FI (4)：
C02F 1/78 ,  B08B 5/00 Z ,  H01L 21/304 647 Z ,  H01L 21/304 648 G
F-Term (9)：
3B116AA02 ,  3B116AA03 ,  3B116BB03 ,  3B116BB62 ,  3B116BB89 ,  4D050AA13 ,  4D050AB11 ,  4D050BB02 ,  4D050BD01
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (12)
  • オゾン水処理方法及び装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-215218   Applicant：ペルメレック電極株式会社
  • 洗浄方法および洗浄装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-021226   Applicant：株式会社フロンテック, 株式会社プレテック
  • ポリオレフィン樹脂成形物の表面改質方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-028440   Applicant：豊田合成株式会社
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