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J-GLOBAL ID:200903021281608102

電界放出で特にフラット表示面を製造するために構築された触媒

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4): 志賀 正武 ,  渡邊 隆 ,  村山 靖彦 ,  実広 信哉
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2006505840
Publication number (International publication number):2006519693
Application date: Feb. 24, 2004
Publication date: Aug. 31, 2006
Summary:
この発明は、以下の工程を含むように特徴づけられ、支持材の上に触媒を構築する方法に関する。支持材の上に触媒層を堆積させ;触媒層をドロップの形状に分布させて作られたその構造物をアニールし;その触媒のドロップの密度を調整するために、分布した触媒層をエッチングする。この発明は、その構築の方法に従って得られたその構造物上に存在する触媒層のドロップ上のカーボンナノチューブの成長の方法にも関する。最終的に、この発明はカソード及びアノードを有する機器に関し、カソードは、ナノチューブ成長の方法によって作られたカーボンナノチューブを含む。
Claim (excerpt):
支持材の上に触媒を構築する方法であり、以下の工程: 支持材(11)の上に触媒層(12)を堆積させる工程; 触媒層(12)をドロップ(14、15)の形状に分布するために作られたその構造物をアニールする工程; その触媒のドロップの密度を調整するために、分布した触媒層をエッチングする工程; を含むことを特徴とする方法。
IPC (10):
B01J 37/00 ,  B01J 37/02 ,  B01J 37/34 ,  B01J 32/00 ,  B01J 27/24 ,  B01J 23/755 ,  B01J 37/08 ,  C01B 31/02 ,  H01J 9/02 ,  H01J 31/12
FI (10):
B01J37/00 A ,  B01J37/02 301P ,  B01J37/34 ,  B01J32/00 ,  B01J27/24 M ,  B01J23/74 321M ,  B01J37/08 ,  C01B31/02 101F ,  H01J9/02 B ,  H01J31/12 C
F-Term (47):
4G146AA11 ,  4G146AB06 ,  4G146AD29 ,  4G146BA08 ,  4G146BA48 ,  4G146BC09 ,  4G146BC43 ,  4G146BC44 ,  4G146BC48 ,  4G169AA01 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BB02A ,  4G169BB11A ,  4G169BC33A ,  4G169BC50A ,  4G169BC56A ,  4G169BC66A ,  4G169BC67A ,  4G169BC68A ,  4G169BC75A ,  4G169BD06A ,  4G169CB81 ,  4G169DA06 ,  4G169EC28 ,  4G169FA01 ,  4G169FB02 ,  4G169FB29 ,  4G169FB49 ,  4G169FB58 ,  4G169FC07 ,  5C036EE02 ,  5C036EE19 ,  5C036EF01 ,  5C036EF06 ,  5C036EF09 ,  5C036EG12 ,  5C036EH04 ,  5C127AA01 ,  5C127BA09 ,  5C127BA15 ,  5C127BB07 ,  5C127CC03 ,  5C127DD32 ,  5C127DD52 ,  5C127EE14 ,  5C127EE15
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
Article cited by the Patent:
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