成形方法および成形装置

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：村山光威
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005026321
Publication number (International publication number)：2006212859
Application date： Feb. 02, 2005
Publication date： Aug. 17, 2006
Summary：

【課題】低コストのプレス成形を経て微細パターンを得るための成形方法を提供する。【解決手段】下型115の上に、被転写体109を設置し、湾曲手段117により加圧して上型110の外周部を湾曲した状態にした後、上プレスヘッド112と下プレスヘッド116を加熱し、上型110の湾曲した状態を保ったまま、上プレスヘッド112によって上型110で被転写体109を押圧して、導波路パターン111を被転写体109に転写する。さらに、湾曲手段117の加圧力を除去することにより、被転写体109の外周部から徐々に離型を開始させ、最後に、上プレスヘッド112の加圧力を成形時とは逆向きに作用させて型開きを行い、成形品122を取り出す。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

少なくとも一方が凹凸形状を含む成形面を有する一対の成形型を対向させて配置し、前記一対の成形型の間に被転写体を供給する第1の工程と、前記一対の成形型における少なくとも一方を押圧して前記被転写体を押圧し、前記成形面を前記被転写体に転写する第2の工程と、前記一対の成形型を型開きする第3の工程を行って成形品を作成する成形方法であって、前記第3の工程は、前記被転写体の外周縁部の少なくとも一部の第1剥離部を離型させた後、前記被転写体の第1剥離部以外の第2剥離部を離型させることを特徴とする成形方法。

IPC (6)：

B29C 43/36 , B29C 33/38 , B29C 33/58 , B29C 59/02 , C03B 11/00 , G02B 6/13

FI (6)：

B29C43/36 , B29C33/38 , B29C33/58 , B29C59/02 B , C03B11/00 A , G02B6/12 M

F-Term (36)：

2H147BA10 , 2H147EA14B , 2H147EA16B , 2H147FD02 , 2H147FD06 , 2H147FD16 , 2H147FF05 , 2H147FF07 , 4F202AH73 , 4F202AJ03 , 4F202AJ06 , 4F202AJ09 , 4F202AJ11 , 4F202CA09 , 4F202CA19 , 4F202CB01 , 4F202CD05 , 4F202CD08 , 4F202CD23 , 4F202CM47 , 4F209AA28 , 4F209AD08 , 4F209AF01 , 4F209AG05 , 4F209AG19 , 4F209AG21 , 4F209AG26 , 4F209AH73 , 4F209AH79 , 4F209PA02 , 4F209PB01 , 4F209PC05 , 4F209PN03 , 4F209PN06 , 4F209PN13 , 4F209PQ11

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

特開昭63-139304号公報
光導波路の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-157983 Applicant：東芝機械株式会社
光導波路の製造方法及び光導波路製造のためのマスタ原板の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-111961 Applicant：シャープ株式会社

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Cited by examiner (2)

ナノプリント用スタンパ、及び微細構造転写方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-078460 Applicant：株式会社日立製作所
回折光学素子の離型方法及び離型装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-203770 Applicant：キヤノン株式会社

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