フォトレジストフィルム

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner： ,
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994252946
Publication number (International publication number)：1996095250
Application date： Sep. 20, 1994
Publication date： Apr. 12, 1996
Summary：

【要約】【目的】蛍光体の分散不良を起こさず常時蛍光体の分散安定性に優れたフォトレジスト層を供給すると共に10μm以上の硬化レジスト層を形成し、パターン形成精度にも優れ、更にはガラス等の基板への密着性にも優れたフォトレジストフィルムを提供すること。【構成】エポキシシラン、アミノシラン、クロロプロピルシランから選ばれる少なくとも1種のシラン系化合物及び蛍光体を含有せしめた感光性樹脂組成物をベースフイルムに積層してなるフォトレジストフィルム。

Claim (excerpt)：

エポキシシラン、アミノシラン、クロロプロピルシランから選ばれる少なくとも1種のシラン系化合物及び蛍光体を含有せしめた感光性樹脂組成物をベースフイルムに積層してなることを特徴とするフォトレジストフィルム。

IPC (10)：

G03F 7/075 501 , C09K 11/00 , G03F 7/004 505 , G03F 7/004 512 , G03F 7/027 502 , G03F 7/028 , G03F 7/032 , G03F 7/038 , H01J 9/227 , H01J 17/04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平4-051241
感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-017450 Applicant：株式会社日立製作所
感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-009802 Applicant：株式会社日立製作所

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