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J-GLOBAL ID:200903021603235552
多層基板
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
恩田 博宣
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995140870
Publication number (International publication number):1996335782
Application date: Jun. 07, 1995
Publication date: Dec. 17, 1996
Summary:
【要約】【目的】半導体素子等、パワー素子による発熱を効率的に放熱する。【構成】多層基板2は、アルミナよりなる3つの絶縁層1a,1b,1cを重ねて形成されている。多層基板2の絶縁層1aには熱伝達用導体としての充填金属4aからなるヒートシンクS1が形成され、その下方の絶縁層1bには熱伝達用導体としての充填金属4bからなるヒートシンクS2が形成されている。ヒートシンクS1,S2は、多層基板2の表層に対して平行となる図の横方向に延設されている。このうちヒートシンクS2の横方向の長さはヒートシンクS1の横方向の長さよりも大きく、ヒートシンクS1,S2はピラミッド状に形成されている。ヒートシンクS1の上にはパワー素子6が搭載されている。パワー素子6で発生した熱はヒートシンクS1,S2を伝わって約45°下方の方向に放熱される。
Claim (excerpt):
複数の絶縁層からなり基板表層にパワー素子が搭載されると共に、パワー素子下部領域の絶縁層に熱伝達用導体からなるヒートシンクを設けた多層基板であって、前記ヒートシンクは、前記パワー素子下方の絶縁層に設けられた第1のヒートシンク部と、その第1のヒートシンク部よりも下方の絶縁層に設けられ、前記基板表層に平行となる少なくとも一方向に延びる第2のヒートシンク部とを有することを特徴とする多層基板。
IPC (2):
FI (3):
H05K 3/46 U
, H05K 3/46 Q
, H05K 1/02 F
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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特開昭50-155973
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基 板
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-229785
Applicant:株式会社東芝
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多層プリント配線板
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-159036
Applicant:三菱電機株式会社
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セラミック回路基板
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-271531
Applicant:京セラ株式会社
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高放熱性セラミックパッケージ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-242748
Applicant:株式会社住友金属セラミックス
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特開昭50-143073
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