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J-GLOBAL ID:200903021815305666
ケイ素化合物含有複合材料および記録素子
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002247472
Publication number (International publication number):2004083757
Application date: Aug. 27, 2002
Publication date: Mar. 18, 2004
Summary:
【課題】従来のメモリー性を有する液晶表示素子としては、高分子液晶を用いた素子、液晶と高分子液晶との複合材料、液晶と高分子化合物との複合材料などが報告されている。しかしながら高分子液晶においては、書き込みエネルギーが大きく、液晶と高分子化合物との複合材料においても、書込電圧または飽和電圧が100V以上である。従って、書き込みエネルギーが小さく、メモリー性を有する記録素子が求められている。本発明の目的は、このような従来技術の問題点を改善できる複合材料を提供することである。【解決手段】かご型構造の有機ケイ素基を少なくとも2つ有する化合物と液晶とを含有する複合材料。【選択図】なし
Claim (excerpt):
かご型構造の有機ケイ素基を少なくとも2つ有する化合物と液晶とを含有する複合材料。
IPC (6):
C08G77/50
, C07F7/21
, C08F30/08
, C08K5/00
, C08L83/04
, G02F1/13
FI (6):
C08G77/50
, C07F7/21
, C08F30/08
, C08K5/00
, C08L83/04
, G02F1/13 505
F-Term (46):
2H088EA62
, 2H088GA02
, 2H088GA03
, 2H088GA04
, 2H088GA10
, 2H088GA11
, 2H088HA02
, 2H088HA06
, 2H088HA18
, 2H088HA28
, 2H088JA04
, 2H088JA17
, 2H088KA24
, 2H088KA26
, 2H088KA27
, 2H088KA28
, 2H088MA20
, 4H049VN01
, 4H049VP08
, 4H049VP09
, 4H049VQ07
, 4H049VQ30
, 4H049VR21
, 4H049VR23
, 4H049VR41
, 4H049VR43
, 4H049VU24
, 4H049VW01
, 4J002CP031
, 4J002CP131
, 4J002CP141
, 4J002CP161
, 4J002ER006
, 4J002FD206
, 4J035BA11
, 4J035CA13U
, 4J035CA131
, 4J035HA01
, 4J035LB20
, 4J100AP16P
, 4J100BA02P
, 4J100BA15P
, 4J100CA01
, 4J100CA04
, 4J100EA12
, 4J100JA32
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (14)
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ケイ素系ハイブリツド材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-280506
Applicant:鐘淵化学工業株式会社
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特開平4-217688
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シリコーン化合物及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-060904
Applicant:新日鐵化学株式会社, 新日本製鐵株式会社
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特開平2-067290
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Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-217195
Applicant:東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社
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Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-233708
Applicant:東芝シリコーン株式会社
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特開平2-193115
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Application number:特願2003-070642
Applicant:チッソ石油化学株式会社
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Application number:特願2002-030661
Applicant:チッソ株式会社, チッソ石油化学株式会社
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Application number:特願平11-150069
Applicant:コニカ株式会社
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Application number:特願平11-072304
Applicant:ダウコーニングアジア株式会社
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Application number:特願2000-068530
Applicant:大日本インキ化学工業株式会社
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ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物
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Application number:特願2002-034974
Applicant:旭化成株式会社
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Application number:特願2003-008225
Applicant:チッソ株式会社
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