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J-GLOBAL ID：200903021847613249

波長変換光学系、レーザ光源、露光装置、被検物検査装置、及び高分子結晶の加工装置

Inventor： 徳久 章 ,  尾下 善紀
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (2)： 渡辺 隆男 ,  大澤 圭司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005230139
Publication number (International publication number)：2007047332
Application date： Aug. 08, 2005
Publication date： Feb. 22, 2007
Summary：

【課題】 従来の光学系よりも簡単な光学系において8倍波を形成できるレーザ装置を提供する。【解決手段】 P偏光の基本波から2倍波形成光学素子3、3倍波形成光学素子4,5倍波形成光学素子6を経由して5倍波を形成すると共に、P偏光の基本波から2倍波形成光学素子9によって、P偏光の2倍波を形成する。S偏光の基本波は、ダイクロイックミラー13により前述のP偏光の2倍波と合成され、さらにP偏光の5倍波、前記S偏光の基本波、P偏光の2倍波はダイクロイックミラー10で合成され、7倍波形成光学素子11に入射する。P偏光の2倍波と5倍波からS偏光の7倍波が形成され、S偏光の基本波と共に8倍波形成光学素子12に入射して合成され、P偏光の8倍波が形成される。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

第1の基本波から少なくとも一つの波長変換光学素子を経て5倍波を形成する第1の波長変換光学系と、 第2の基本波から2倍波を形成する2倍波形成光学素子と、 第3の基本波と前記2倍波形成光学素子から出射した前記2倍波とを同一光路に合成する第1の光学部材と、 前記第3の基本波と前記2倍波形成光学素子から出射した前記2倍波と前記第1の波長変換光学系から出射した前記5倍波とを同一光路に合成する第2の光学部材と、 前記2倍波と前記5倍波とから7倍波を形成する7倍波形成光学素子と、 前記7倍波形成光学素子から出射した前記第3の基本波と前記7倍波とから8倍波を形成する8倍波形成光学素子とを有してなる波長変換光学系。

IPC (1)：

G02F 1/37

FI (1)：

G02F1/37

F-Term (7)：

2K002AB12 ,  2K002BA01 ,  2K002CA02 ,  2K002EA10 ,  2K002HA18 ,  2K002HA19 ,  2K002HA20

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• レーザ治療装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-078636   Applicant：株式会社ニコン

Cited by examiner (4)

• 光源装置及び光照射装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-189435   Applicant：株式会社ニコン
• 露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-270708   Applicant：日本電気株式会社
• 波長変換装置および該波長変換装置を用いた紫外レーザ装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-165029   Applicant：株式会社ニコン
• レーザ治療装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-078636   Applicant：株式会社ニコン

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• ”193nm固体レーザー”