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J-GLOBAL ID：200903021941562887

真空容器

Inventor： 三嶋 和彦
Applicant, Patent owner： 京セラ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998087578
Publication number (International publication number)：1999283972
Application date： Mar. 31, 1998
Publication date： Oct. 15, 1999
Summary：

【要約】【課題】真空容器を構成するセラミックスや石英ガラスがハロゲン系腐食性ガスや混合ガス中の酸素などと反応して反応生成物を生成し、該反応生成物がパーティクルとして剥がれ落ちて被加工物に悪影響を与えるまでの時間を長くすることにより、真空容器のメンテナンス回数を低減し、装置の稼動効率を高める。【解決手段】少なくともハロゲン系腐食性ガス及び/又はプラズマに曝される部位をセラミックス又は石英ガラスにより形成し、その表面に複数個の凹部3を設けてチャンバやベルジャをなす真空容器1を構成する。

Claim (excerpt)：

少なくともハロゲン系腐食性ガス及び/又はプラズマに曝される部位がセラミックス又は石英ガラスからなり、その表面に複数個の凹部を有することを特徴とする真空容器。

IPC (5)：

H01L 21/3065 ,  B01J 3/00 ,  C23C 14/00 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205

FI (5)：

H01L 21/302 B ,  B01J 3/00 K ,  C23C 14/00 C ,  C23F 4/00 Z ,  H01L 21/205

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 真空処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-156973   Applicant：アネルバ株式会社
• プラズマ処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-184614   Applicant：松下電子工業株式会社
• ECRプラズマ処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-306666   Applicant：ソニー株式会社