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J-GLOBAL ID:200903021958758300
表面形状および/または膜厚測定方法及びその装置
Inventor:
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,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
杉谷 勉
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003136136
Publication number (International publication number):2004340680
Application date: May. 14, 2003
Publication date: Dec. 02, 2004
Summary:
【課題】測定対象物またはその表面が透明膜で覆われた測定対象物の凹凸状態の表面形状などを精度よく測定する表面形状および/または膜厚測定方法及びその装置提供する。【解決手段】白色光源からの白色光を測定対象面または透明膜で覆われた測定対象面と参照面とに照射しながら、測定対象面の距離を変動させることにより測定対象面と参照面とを反射する反射光の光路差を生じさせて、このときの干渉光の強度値を所定間隔でサンプリングする。得られ強度値群に基づいて物理モデルの関数を作成し、この関数を強度値群に合せ込んでゆき、略一致したときの関数のピーク位置情報を求め、この求まったピーク位置情報から特定箇所の透明膜の表面高さ、測定対象物の表面高さ、および透明膜の膜厚の少なくともいずれか一つを求める。【選択図】 図2
Claim (excerpt):
白色光源からの白色光を測定対象面と参照面とに照射しながら、前記測定対象面と参照面との距離を変動させることにより、測定対象面と参照面から反射して同一光路を戻る反射光によって干渉縞の変化を生じさせ、このときの干渉光の強度値に基づいて測定対象面の特定箇所の表面高さを求める前記測定対象面の表面形状測定方法において、
前記特定周波数帯域の白色光が照射された前記測定対象面と参照面との距離を変動させる第1の過程と、
前記測定対象面と参照面との距離を変動させる過程で、測定対象面の画像を所定間隔で連続して取得する第2の過程と、
前記所定間隔で連続して取得した複数枚の画像の各画素における干渉光の強度値群の変化を求める第3の過程と、
前記求めた強度値群から包絡線に相当する特性値群を取得する第4の過程と、
前記特性値群の変化を示す波形データに対応する物理モデルの関数を作成する第5の過程と、
前記特性値群の示す波形データと物理モデルの関数とを比較し、求まる誤差を補正しながら特性値群の示す波形データに物理モデルの関数を合せ込む第6の過程と、
前記特性値群の示す波形データに合せ込んだ物理モデルの関数から測定対象面と参照面に関連するピーク位置情報を求め、このピーク位置情報に基づいて、測定対対象面の特定箇所の表面高さを求める第7の過程と
を備えることを特徴とする表面形状測定方法。
IPC (3):
G01B11/24
, G01B11/02
, H01L21/66
FI (5):
G01B11/24 K
, G01B11/02 G
, G01B11/02 H
, H01L21/66 J
, G01B11/24 D
F-Term (28):
2F065AA24
, 2F065AA49
, 2F065CC19
, 2F065DD03
, 2F065FF04
, 2F065FF52
, 2F065GG02
, 2F065HH03
, 2F065JJ03
, 2F065JJ09
, 2F065JJ26
, 2F065LL04
, 2F065MM26
, 2F065PP04
, 2F065QQ18
, 2F065QQ29
, 2F065QQ42
, 4M106AA01
, 4M106AA20
, 4M106BA04
, 4M106CA39
, 4M106CA48
, 4M106DB04
, 4M106DB07
, 4M106DB12
, 4M106DB13
, 4M106DJ17
, 4M106DJ20
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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表面形状測定方法及びその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-241640
Applicant:財団法人理工学振興会, 東レエンジニアリング株式会社
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膜厚測定方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-197724
Applicant:株式会社東京精密
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