層内レンズの形成方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：松隈秀盛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998332896
Publication number (International publication number)：2000164837
Application date： Nov. 24, 1998
Publication date： Jun. 16, 2000
Summary：

【要約】【課題】レンズの焦点距離を所望の距離に広範囲で調節することを可能にする層内レンズの形成方法を提供する。【解決手段】層内レンズ材料の層15上にレンズ形状のレジスト16によるマスクを形成し、エッチバックしてマスク16のレンズ形状を層内レンズ材料の層15に転写して層内レンズ7を形成する際に、レジスト16の層内レンズ材料15に対するエッチング選択比を1より大きくしてレジスト16の厚さより薄い層内7レンズを形成する。または、レジスト16の層内レンズ材料15に対するエッチング選択比を1より小さくしてレジスト16の厚さより厚い層内レンズ7を形成する。

Claim (excerpt)：

層内レンズ材料の層上にレンズ形状のレジストによるマスクを形成し、エッチバックして上記マスクの上記レンズ形状を上記層内レンズ材料の層に転写して層内レンズを形成する際に、上記レジストの上記層内レンズ材料に対するエッチング選択比を1より大きくして上記レジストの厚さより薄い上記層内レンズを形成することを特徴とする層内レンズの形成方法。

IPC (5)：

H01L 27/14 , G02B 3/00 , G09F 9/00 316 , H01L 27/148 , H04N 5/335

FI (5)：

H01L 27/14 D , G02B 3/00 Z , G09F 9/00 316 A , H04N 5/335 V , H01L 27/14 B

F-Term (24)：

4M118BA01 , 4M118CA03 , 4M118CA07 , 4M118DA02 , 4M118FA33 , 4M118GA07 , 4M118GB03 , 4M118GB08 , 4M118GD03 , 4M118GD07 , 4M118HA23 , 5C024AA01 , 5C024CA00 , 5C024CA31 , 5C024EA04 , 5C024FA01 , 5C024GA11 , 5G435AA03 , 5G435AA17 , 5G435BB12 , 5G435FF07 , 5G435GG02 , 5G435HH02 , 5G435KK07

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

固体撮像素子
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-029931 Applicant：ソニー株式会社
特開平3-190166
特開平4-322467

Show all

Return to Previous Page