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J-GLOBAL ID：200903022035747302

微小領域散乱プローブ、プローブの距離制御方法およびプローブの作製方法

Inventor：
山本 典孝

About 山本 典孝

, 
平賀 隆

About 平賀 隆

, 
伊與木 誠人

About 伊與木 誠人


Applicant, Patent owner：
セイコーインスツルメンツ株式会社

About セイコーインスツルメンツ株式会社

, 
独立行政法人産業技術総合研究所

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Agent (1)： 坂上 正明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002080235
Publication number (International publication number)：2003014609
Application date： Mar. 22, 2002
Publication date： Jan. 15, 2003
Summary：
【要約】【課題】 開口型SNOMでは光のスループットが悪く、損失による光の利用効率が低い。本発明は散乱型SNOMに準ずるため、近接場光の利用効率が高く、加工などの目的にも利用できる。また探針部を持たない微小領域プローブを利用することでプローブを機械的に破損することも軽減できる。倒立型の顕微鏡をベースに構成しているため、従来の顕微観察も行え、さらに詳細部の構造をSNOMによって観察できるシステムが提供できる。プローブの交換の作業が容易であることから操作性の向上が実現できる。【解決手段】 マイクロ加工で作製された誘電体からなる板状チッププローブを対物レンズと一体にして近接場プローブとして用い、従来の顕微鏡の光学系を利用できるように顕微鏡に組み込んで近接場検査装置に利用する。
Claim (excerpt)：
近接場光学顕微鏡に用いる光プローブであって、屈折率の大きな薄い板状の誘電体から成りかつ表面がナノメートルオーダーで平らであり、その表面付近の微小不均一領域が作製されることにより、エバネッセント光を散乱させることを特徴とする微小領域散乱プローブ。
IPC (7)：
G01N 13/14 ,  G01B 11/00 ,  G01B 11/30 ,  G11B 7/09 ,  G11B 7/135 ,  G11B 7/22 ,  G12B 21/06
FI (7)：
G01N 13/14 B ,  G01B 11/00 B ,  G01B 11/30 Z ,  G11B 7/09 B ,  G11B 7/135 A ,  G11B 7/22 ,  G12B 1/00 601 C
F-Term (44)：
2F065AA06 ,  2F065AA49 ,  2F065DD16 ,  2F065FF00 ,  2F065FF44 ,  2F065FF46 ,  2F065GG04 ,  2F065GG21 ,  2F065HH04 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ08 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL05 ,  2F065LL12 ,  2F065LL46 ,  2F065PP24 ,  5D118AA01 ,  5D118AA06 ,  5D118AA14 ,  5D118CA11 ,  5D118CC06 ,  5D118CC11 ,  5D118CC12 ,  5D118CD02 ,  5D118CG03 ,  5D118CG07 ,  5D119AA01 ,  5D119AA11 ,  5D119AA22 ,  5D119AA28 ,  5D119AA32 ,  5D119AA38 ,  5D119AA43 ,  5D119EB02 ,  5D119EC29 ,  5D119EC37 ,  5D119EC40 ,  5D119EC47 ,  5D119JA06 ,  5D119JA34 ,  5D119JA43 ,  5D119JA57 ,  5D119NA05
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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