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J-GLOBAL ID：200903039558558813

近接場光プローブおよびそれを用いた近接場光学顕微鏡および光記録/再生装置

Inventor： 松本 拓也 ,  島野 健 ,  保坂 純男 ,  一色 史雄
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 作田 康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000073922
Publication number (International publication number)：2001255254
Application date： Mar. 13, 2000
Publication date： Sep. 21, 2001
Summary：

【要約】【課題】 本発明は、光利用効率が高く、高速走査が可能で、検出される光に含まれるバックグランド光が少ない近接場光プローブおよびその製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 基板11の上に円錐体または多錐体または平面楕円体または三角形の形状をした金属の散乱体12を形成し、その散乱体の周辺に散乱体の高さと同じ膜厚を持つ金属または誘電体または半導体などの膜13を形成する。

Claim (excerpt)：

基板上に、軸が基板表面と垂直な円錐または多角錐の形状をした金属の散乱体を有することを特徴とする近接場光プローブ。

IPC (7)：

G01N 13/14 ,  G01N 13/10 ,  G02B 3/00 ,  G02B 5/00 ,  G02B 5/32 ,  G11B 7/135 ,  G12B 21/06

FI (7)：

G01N 13/14 B ,  G01N 13/10 G ,  G02B 3/00 Z ,  G02B 5/00 Z ,  G02B 5/32 ,  G11B 7/135 A ,  G12B 1/00 601 C

F-Term (12)：

2H042AA18 ,  2H042AA23 ,  2H042AA31 ,  2H049CA05 ,  2H049CA20 ,  5D119AA11 ,  5D119AA22 ,  5D119BA01 ,  5D119CA06 ,  5D119DA01 ,  5D119DA05 ,  5D119JA34

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 近接場光ヘッド、近接場光ヘッドの加工方法および光記録再生装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-066489   Applicant：株式会社日立製作所
• 光ファイバプローブ、その製造方法及び薄膜形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-262923   Applicant：財団法人神奈川科学技術アカデミー
• 光ファイバプローブ及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-262146   Applicant：財団法人神奈川科学技術アカデミー