プラズマ発生装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002036249
Publication number (International publication number)：2002343599
Application date： Feb. 14, 2002
Publication date： Nov. 29, 2002
Summary：

【要約】【課題】安定した極微細プラズマを発生するプラズマ発生装置を提供する。【解決手段】プラズマトーチ1はガラスチューブ2とメタルチューブ3とから成り、その先端部分2F(プラズマ発生部分及びその近傍部分)は、例えば、60μm程度の内半径を有する。先端部分2Fの周囲には高周波コイルが、先端部分近傍には点火用コイル6がそれぞれ巻回される。トーチ内には、先端部分2F中央近傍まで先端が届くように、半径10数μm程度の高融点金属製のワイヤ8が配置される。メタルチューブ3の端部にはガスボンベ10に繋がったガス導入用チューブ9が接続され、ガラスチューブ2内にArガスが導入される。高周波コイルからの高周波電力によりガラスチューブ内に誘導結合プラズマが生成すると共に、その高周波電力により誘導加熱されて高温になったワイヤ8からの熱電子がプラズマに補給される。

Claim (excerpt)：

筒状の絶縁材料製プラズマトーチ、プラズマガスがトーチ内部を流れ先端から噴出するようにトーチ内へプラズマガスを供給する手段、該プラズマガスを励起するための高周波コイル、該コイルに高周波電力を供給するための高周波電源、及び、該トーチ内のプラズマ発生領域またはその近傍に位置するように配設され、加熱されることにより電子を発生する電子発生部材を備えたことを特徴とするプラズマ発生装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

誘導結合型プラズマトーチ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-006095 Applicant：富士電機株式会社
特開平2-010700
表面処理方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-208570 Applicant：株式会社ブリヂストン, 岡崎幸子, 小駒益弘

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