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J-GLOBAL ID：200903022317519175

重ね合わせ測定方法及び測定装置及び測定パターン

Inventor： 斉藤 卓
Applicant, Patent owner： 松下電子工業株式会社
Agent (1)： 滝本 智之 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997202732
Publication number (International publication number)：1999044664
Application date： Jul. 29, 1997
Publication date： Feb. 16, 1999
Summary：

【要約】【課題】 微細パターン間の重ね合わせを直接測定し、重ね合わせ精度の向上を図る。【解決手段】 100〜500kVの加速が可能な電子顕微鏡を用い、レジストによる第一のパターンと、前記レジストによる第一のパターンの下に形成されている第二のパターンとを前記電子顕微鏡で同時に観察することによって、前記第一のパターンと前記第二のパターンとの重ね合わせずれを測定する。さらに、半導体基板上にあって、かつ半導体回路の動作に無関係な領域に、前記半導体回路の代表的な回路パターンの一部分を形成しておき、これを前記電子顕微鏡を用いて、この部分での重ね合わせを測定することで、パターンの重ね合わせ精度を製造工程の途上で判定可能である。

Claim (excerpt)：

100〜500kVの加速が可能な電子顕微鏡を用い、レジストによる第一のパターンと、前記レジストによる第一のパターンの下層に形成されている第二のパターンとを前記電子顕微鏡で同時に観察することによって、前記第一のパターンと前記第二のパターンとの重ね合わせずれを測定することを特徴とする重ね合わせ測定方法。

IPC (4)：

G01N 23/225 ,  G01B 15/00 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/027

FI (5)：

G01N 23/225 ,  G01B 15/00 B ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 502 M ,  H01L 21/30 512

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 半導体装置の製造方法および測定マークパターン
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-323335   Applicant：日本電気株式会社
• マーク検出方法、これを用いた位置合わせ方法、露光方法及び装置、ならびにデバイス生産方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-260092   Applicant：キヤノン株式会社
• 測長用モニター
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-267608   Applicant：三洋電機株式会社
• 重ね合わせ精度の測定方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-181351   Applicant：日本電気株式会社