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J-GLOBAL ID：200903022326990964

透明導電膜及びその製造方法

Inventor：
伊藤 祐一

About 伊藤 祐一


Applicant, Patent owner：
凸版印刷株式会社

About 凸版印刷株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994310452
Publication number (International publication number)：1996167479
Application date： Dec. 14, 1994
Publication date： Jun. 25, 1996
Summary：
【要約】【目的】平滑性、透明性、表面の仕事関数が高く、低抵抗な透明導電膜及びその製造方法を提供すること。【構成】1〜100°Cの基板温度でX線回折的に非晶質なまたは微結晶からなる非晶質に近いITO薄膜を、減圧下または非酸化性下100〜500°Cでアニールした後、酸化性雰囲気下100〜500°Cでアニールするか、フラズマ照射するかして、表面の高低差を1〜10nmにし、表面の仕事関数を5.1〜6.0eVに高める。
Claim (excerpt)：
表面高低差が1μm平方の範囲で1nm〜10nm、表面の仕事関数が5.1〜6.0eV、表面抵抗率が3〜50Ω/□、基板を含めた450〜800nmにおける可視光透過率が75〜90%であることを特徴とする透明導電膜。
IPC (4)：
H05B 33/28 ,  C23C 14/08 ,  H01B 5/14 ,  H01B 13/00 503
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
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Cited by examiner (6)
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