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J-GLOBAL ID:200903022341160668

ポジ型感光性組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001157367
Publication number (International publication number):2002323758
Application date: May. 25, 2001
Publication date: Nov. 08, 2002
Summary:
【要約】【課題】輪帯照明を用いた際にデフォーカスラチチュードが広く、ハーフトーン位相シフトマスクを用いてパターン形成した際にサイドローブが発生し難いポジ型感光性組成物、また、加えて経時保存時にパーティクルが発生し難いポジ型感光性組成物を提供する。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する酸発生剤、(B)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、(C)塩基性化合物、及び(D)フッ素及び/又はシリコン系界面活性剤を含有し、且つ(A)酸発生剤が、フェナシルスルフォニウム塩構造を有する化合物を少なくとも1種及び芳香環を有さないスルホニウム塩を少なくとも1種含有する混合物であることを特徴とするポジ型感光性組成物。
Claim (excerpt):
(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する酸発生剤、(B)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、(C)塩基性化合物、及び(D)フッ素及び/又はシリコン系界面活性剤を含有し、且つ(A)酸発生剤が、フェナシルスルフォニウム塩構造を有する化合物を少なくとも1種及び芳香環を有さないスルホニウム塩を少なくとも1種含有する混合物であることを特徴とするポジ型感光性組成物。
IPC (5):
G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 504 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (5):
G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 504 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (16):
2H025AA00 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025CC03 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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