フタリド化合物、およびこれを用いる近赤外線吸収剤並びに記録材料

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：森岡博
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994145673
Publication number (International publication number)：1995268223
Application date： Jun. 03, 1994
Publication date： Oct. 17, 1995
Summary：

【要約】 (修正有)【構成】一般式(I)で表されるフタリド化合物、およびこれを用いる近赤外線吸収剤並びに記録材料に関する。(式中、環Aは下記の構造式で表される置換基を示し、R1 は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子を、nは1〜3の整数を示す。環Bは芳香環を示し、R2 はアルキル基またはアリール基を示し、R3 はアルキル基を示し、R4 , R5 はアルキル基または置換基を有してもよいフェニル基を示し、R6 は水素原子、アルキル基、アルコキシ基を示す。)【効果】フタリド化合物を用いた近赤外線吸収剤並びに記録材料の記録画像は、近赤外領域には強い吸収を示すが可視領域の吸収が小さいので記録画像が目視においては読み取りが困難であるが、OCRによって読み取ることができる。

Claim (excerpt)：

一般式(I)で表されるフタリド化合物。【化1】(式中、環Aは下記の構造式で表される置換基を示し、【化2】R1 は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子を示し、nは1〜3の整数を示す。環Bは下記の構造式で表される置換基を示す。【化3】R2 はアルキル基またはアリール基を示し、R3 はアルキル基を示し、R4 ,R5 は個別にアルキル基または置換基を有してもよいフェニル基を示し、R6 は水素原子、アルキル基またはアルコキシ基を示す。)

IPC (5)：

C09B 11/00 , C07D405/06 209 , C09K 9/02 , G11B 7/24 516 , B41M 5/26

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (9)

特開平4-158084
フタリド化合物の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-006460 Applicant：山本化成株式会社
モノ(インドリルエチレニル)フタリド
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-360605 Applicant：アップルトンペーパーズインコーポレイテッド

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