ガス供給集積ユニット

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：富澤孝 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996017156
Publication number (International publication number)：1997184599
Application date： Jan. 05, 1996
Publication date： Jul. 15, 1997
Summary：

【要約】【課題】狭いフロアスペースで配設可能に集積されたコンパクトなガス供給集積ユニットを提供すること、また溶接によるパーティクルの発生を防止したガス供給集積ユニットを提供すること。【解決手段】本発明のガス供給集積ユニットは、腐食性ガスである供給ガスF及び供給ガスを排除するパージガスPの流路17a,17b,18a,18b,18c18d,19a,19b,19cが形成された固定ブロック11,12,15に、供給ガスの混入不純物を除去するためのフィルタ2、供給ガスの流れを遮断する開閉弁3、供給ガスの流量を制御するマスフローコントロフーラ4、パージガスを供給するためのパージ弁5、及びパージガス供給側への供給ガスの流入を防止する逆止弁6とを固設する取付部が備えられたものである。

Claim (excerpt)：

供給ガスの混入不純物を除去するためのフィルタと、流路を流れる供給ガスの流れを調節する開閉弁と、供給ガスの流量を制御するマスフローコントローラと、前記マスフローコントローラ内に残留する供給ガスを排除するパージガスを供給するためのパージ弁と、パージガス供給側への供給ガスの流入を防止する逆止弁とを備えたガス供給集積ユニットにおいて、前記供給ガス及び前記パージガスが流れる流路が形成され、当該流路上に前記フィルタ、前記開閉弁、前記マスフローコントローラ、前記パージ弁、及び前記逆止弁を固設するための取付部を備えた固定ブロックを有することを特徴とするガス供給集積ユニット。

IPC (4)：

F17D 1/04 , F17C 13/04 301 , F17D 5/00 , H01L 21/02

FI (4)：

F17D 1/04 , F17C 13/04 301 Z , F17D 5/00 , H01L 21/02 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

ガス供給装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-045929 Applicant：株式会社東芝, シーケーディ株式会社
シリンダキャビネット
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-003845 Applicant：株式会社日立製作所, 日立超エル・エス・アイ・エンジニアリング株式会社

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