超臨界乾燥方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：山川政樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999346205
Publication number (International publication number)：2001165568
Application date： Dec. 06, 1999
Publication date： Jun. 22, 2001
Summary：

【要約】【課題】超臨界乾燥におけるパターン倒れを、従来より減少する。【解決手段】基板101をノルマルヘキサンに浸漬した後、反応室102内に液化二酸化炭素とともに封入し、基板101表面のノルマルヘキサンを液化二酸化炭素で置換する。

Claim (excerpt)：

基板上に形成された所定のパターンを有するパターン層を水に晒す第1の工程と、この第1の工程の後、前記パターン層に前記水が付着した状態で前記パターン層をアルコールの液体に晒し、前記パターン層に付着している水を前記アルコールの液体に溶解させて前記パターン層に前記アルコールの液体が付着している状態とする第2の工程と、この第2の工程の後、前記パターン層に前記アルコールの液体が付着している状態で前記パターン層を脂肪族炭化水素の液体に晒し、前記パターン層に付着しているアルコールの液体を前記脂肪族炭化水素の液体に溶解させて前記パターン層に前記脂肪族炭化水素の液体が付着している状態とする第3の工程と、この第3の工程の後、前記パターン層に前記脂肪族炭化水素の液体が付着している状態で前記パターン層を大気雰囲気では気体である無極性物質の液体に晒し、前記パターン層に付着している脂肪族炭化水素の液体を前記無極性物質の液体に溶解させて前記パターン層に前記無極性物質の液体が付着している状態とする第4の工程と、この第4の工程の後、前記パターン層に付着している無極性物質を超臨界状態とする第5の工程と、この第5の工程の後、前記パターン層に付着している超臨界状態の無極性物質を気化させる第6の工程とを少なくとも備えたことを特徴とする超臨界乾燥方法。

IPC (2)：

F26B 7/00 , H01L 21/304 651

FI (2)：

F26B 7/00 , H01L 21/304 651 J

F-Term (6)：

3L113AA01 , 3L113AB10 , 3L113AC20 , 3L113AC23 , 3L113BA34 , 3L113DA04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平3-127832
洗浄剤組成物及び洗浄方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-059803 Applicant：栗田工業株式会社
基板処理方法および基板処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-089447 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社

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