Pat
J-GLOBAL ID：200903023043417040
微小構造体の製造装置
Inventor：
,
,
,
,
,
,
,
,
Applicant, Patent owner：
,
Agent (4)：
光石 俊郎
, 光石 忠敬
, 田中 康幸
, 松元 洋
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004111769
Publication number (International publication number)：2005288673
Application date： Apr. 06, 2004
Publication date： Oct. 20, 2005
Summary：
【課題】 高い形状精度を有する微小構造体の製造装置を提供する。【解決手段】 真空容器21内に、ステージ装置5として、所定の位置決め精度を有し、大ストローク長の粗動ステージ51、粗動ステージ51上に設置され、粗動ステージ51より高精度の位置決め精度を有し、小ストローク長の微動ステージ52等を備え、ステージ制御部6として、微動ステージ52上に設置されたミラー55までの測長を行うレーザ測長器64、レーザ測長器64の測定により微動ステージ52を駆動するステージ制御装置61等を備え、圧接機構部4として、ステージ装置5が保持する被圧接部材25に対向配置された圧接対象部材24を保持すると共に圧接離間させる押付ロッド44、押付ロッド44に圧接力を与える圧接駆動機構41等を備えた微小構造体の製造装置。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
真空容器内に配置され、任意の2次元パターン乃至3次元パターンを備えた複数の薄膜部材を有する被圧接部材と、前記被圧接部材に対向して配置された圧接対象部材とを圧接すると共に、前記圧接対象部材側へ前記薄膜部材を離間させる圧接離間手段と、
前記被圧接部材と前記圧接対象部材との位置決めを行なう位置決め手段とを有し、
前記位置決め手段により前記圧接対象部材と前記薄膜部材の互いの接合部分を正対させ、前記圧接離間手段により前記圧接対象部材へ前記薄膜部材を圧接すると共に離間して、前記薄膜部材を前記圧接対象部材側へ積層する微小構造体の製造装置であって、
前記被圧接部材と前記圧接対象部材の表面に原子、イオンビームを照射する表面清浄化手段を備え、
前記位置決め手段は、
前記圧接対象部材へ対向する前記被圧接部材の面全面に渡って移動可能なストロークを有する第1ステージと、
前記第1ステージの位置決め精度の範囲と同等以上のストロークを有する第2ステージと、
前記被圧接部材の位置を高精度で測定可能な測定手段と、
前記第1ステージにより移動された前記被圧接部材の位置を前記測定手段により測定し、測定された位置と目標位置との差分から誤差補正値を算出し、算出された前記誤差補正値を用いて前記第2ステージを目標位置へ移動させ、前記第1ステージの位置決め誤差を補正する位置決め制御手段とを備えたことを特徴とする微小構造体の製造装置。
IPC (1)：
FI (1)：
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
-
特許第3161362号公報(第7-9頁、第6-9図)
Cited by examiner (6)
Show all
Return to Previous Page
