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J-GLOBAL ID：200903023273324548

微細構造体の洗浄方法

Inventor： 増田 薫 ,  飯島 勝之 ,  鈴木 哲雄 ,  川上 信之 ,  山形 昌弘
Applicant, Patent owner： 株式会社神戸製鋼所
Agent (1)： 小谷 悦司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001034337
Publication number (International publication number)：2002237481
Application date： Feb. 09, 2001
Publication date： Aug. 23, 2002
Summary：

【要約】【課題】 液状の二酸化炭素に添加することで高い洗浄力を発揮する洗浄成分を見出して、優れた洗浄効果を示す洗浄方法を確立する。【解決手段】 微細構造体に付着している物質を除去するための洗浄方法であって、二酸化炭素と、二酸化炭素に非相溶である洗浄成分と、相溶化剤とを必須的に含む洗浄剤組成物を、高圧下で流体状にして前記微細構造体を接触させることを特徴とする微細構造体の洗浄方法である。

Claim (excerpt)：

微細構造体に付着している物質を除去するための洗浄方法であって、二酸化炭素と、二酸化炭素に非相溶である洗浄成分と、相溶化剤とを必須的に含む洗浄剤組成物を、高圧下で流体状にして前記微細構造体を接触させることを特徴とする微細構造体の洗浄方法。

IPC (11)：

H01L 21/304 647 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 651 ,  B08B 3/08 ,  B08B 3/10 ,  C11D 7/08 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/32 ,  C11D 7/60 ,  C11D 17/00 ,  F26B 5/04

FI (11)：

H01L 21/304 647 Z ,  H01L 21/304 647 A ,  H01L 21/304 651 K ,  B08B 3/08 Z ,  B08B 3/10 Z ,  C11D 7/08 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/32 ,  C11D 7/60 ,  C11D 17/00 ,  F26B 5/04

F-Term (29)：

3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201BB01 ,  3B201BB82 ,  3B201BB90 ,  3B201BB92 ,  3B201BB95 ,  3B201BB98 ,  3B201CC01 ,  3B201CC15 ,  3L113AA01 ,  3L113AB10 ,  3L113AC67 ,  3L113BA34 ,  3L113CB15 ,  3L113DA04 ,  3L113DA24 ,  4H003BA12 ,  4H003BA28 ,  4H003DA15 ,  4H003DB03 ,  4H003DC03 ,  4H003EA31 ,  4H003EB04 ,  4H003EB06 ,  4H003EB14 ,  4H003EB19 ,  4H003EB21 ,  4H003FA21

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 無機汚染除去方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-208037   Applicant：テキサスインスツルメンツインコーポレイテツド
• 化学的誘導及び抽出による無機汚染物質の除去方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-199998   Applicant：テキサスインスツルメンツインコーポレイテツド
• 残留スラリを化学機械的に研磨して除去するプロセス
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-388283   Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション