パターン欠陥検査方法およびその装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴江武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995059265
Publication number (International publication number)：1996254816
Application date： Mar. 17, 1995
Publication date： Oct. 01, 1996
Summary：

【要約】【目的】試料が位相シフトマスクのようなものの場合でもdie-to-database 検査法で高感度にパターン欠陥を検査できる方法および装置を提供する。【構成】設計パターンデータをビット展開回路11でビットイメージに展開し、この展開されたビットイメージデータに定められた処理を施して得た参照データとセンサ回路6から得られた測定パターンデータとを比較回路8で比較して試料2に形成されているパターンの欠陥有無を判定するパターン欠陥検査装置において、前記ビットイメージデータに、測定パターンデータの取得形態に対応させ、かつ少なくとも試料2に形成されているパターンの遮光部構成材の光学特性に応じた修正を施して得たデータを、比較回路8に参照データとして与えるパターン修正回路31を備えている。

Claim (excerpt)：

試料に形成されているパターン像を検出して得られる測定パターンデータと上記パターンの形成に用いた設計パターンデータとを比較してパターン欠陥の有無を判定するパターン欠陥検査方法において、前記設計パターンデータに、少なくとも前記試料に形成されているパターンの遮光部構成材の特性に応じた修正を施して得た参照設計パターンデータと前記測定パターンデータとを比較してパターン欠陥の有無を判定するようにしたことを特徴とするパターン欠陥検査方法。

IPC (3)：

G03F 1/08 , H01L 21/30 , H01L 21/027

FI (3)：

G03F 1/08 S , H01L 21/30 , H01L 21/30 502 V

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

パターン欠陥検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-105673 Applicant：株式会社東芝
パターン検査方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-324548 Applicant：株式会社東芝
マスクの検査方法及びマスクの検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-274700 Applicant：富士通株式会社

Return to Previous Page