薄膜及び微細構造体の製造方法、並びに薄膜及び微細構造体

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：上柳雅誉 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000105999
Publication number (International publication number)：2001286818
Application date： Apr. 07, 2000
Publication date： Oct. 16, 2001
Summary：

【要約】【課題】機能性の溶質が液体状態と同等もしくはそれ以上の高分散かつ等方的状態を有する膜およびその製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】基板3上に機能を発現する溶質2、3を含む塗布液を適用し、その塗布液中の溶媒が蒸発する前に、エネルギー線を照射することにより、高分散かつ等方的状態を作り出し、同時に膜化する事を特徴とする。特に、前記塗布液適用方法がインク吐出法によるとき、前記高分散かつ等方的状態を有する膜を好適に得る。

Claim (excerpt)：

基板に薄膜を形成する方法において、前記薄膜を形成するための溶液を該基板に適用しこの溶液を膜化する際に、前記基板にエネルギー線を照射することを特徴とする薄膜の製造方法。

IPC (4)：

B05D 3/06 , B05D 7/00 , H05B 33/10 , H05B 33/14

FI (5)：

B05D 3/06 Z , B05D 7/00 E , B05D 7/00 H , H05B 33/10 , H05B 33/14 A

F-Term (17)：

3K007AB03 , 3K007AB04 , 3K007AB06 , 3K007AB18 , 3K007CA01 , 3K007CA05 , 3K007CB01 , 3K007DA01 , 3K007DB03 , 3K007EB00 , 3K007FA01 , 3K007FA03 , 4D075BB37Y , 4D075BB48Y , 4D075DA06 , 4D075DB13 , 4D075DC21

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (11)

特開平3-258370
特開昭56-031472
日射遮蔽膜およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-100432 Applicant：大日本印刷株式会社

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