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J-GLOBAL ID：200903023911528563

全反射減衰を利用した測定装置

Inventor：
村石 勝明

About 村石 勝明


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 小林 和憲
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004272959
Publication number (International publication number)：2006090718
Application date： Sep. 21, 2004
Publication date： Apr. 06, 2006
Summary：
【課題】 固定処理の作業効率を悪化させることなくSPR測定を行う。【解決手段】 SPR測定装置は、センサユニットにリガンドを固定する固定処理を行う固定機10と固定済みのセンサユニットを用いてリガンドとアナライトとの反応状況を測定する測定処理を行う測定機11とからなる。センサユニットは、ホルダ52に収納された状態で各処理が行われる。固定機10と測定機11との間には、保管機101が配置される。固定が完了したセンサユニットは固定機10から保管機101に送り出される。空になった固定機10には、未固定のセンサユニットがセットされて、固定処理が開始される。保管機101に固定済みセンサユニットが溜まった時点で、センサユニットは測定機11へ送り出されて、測定処理が実行される。【選択図】 図6
Claim (excerpt)：
透明な誘導体上に形成され一方の面がリガンドとアナライトとの反応を検知するためのセンサ面となる薄膜を持つセンサを備えるセンサユニットを用い、前記センサ面にリガンドを固定するとともに、前記センサ面の裏側の光入射面に全反射条件を満たすように光源から光を入射させ、前記センサ面にアナライトを接触させたときの前記光の反射光の減衰状況を検出することにより、前記リガンドと前記アナライトの反応状況を測定する全反射減衰を利用した測定装置において、 前記センサ面にリガンドを固定化する固定処理を行なう固定ステージと、 前記センサ面にアナライトを接触させて、前記光の減衰状況を検出して測定処理を行なう測定ステージと、 測定処理が行なわれるまで、前記リガンドが注入されたセンサユニットを保管する保管ステージとからなることを特徴とする全反射減衰を利用した測定装置。
IPC (2)：
G01N 21/27 ,  G01N 21/01
FI (2)：
G01N21/27 C ,  G01N21/01 C
F-Term (21)：
2G059AA02 ,  2G059BB12 ,  2G059CC16 ,  2G059DD01 ,  2G059DD03 ,  2G059DD12 ,  2G059DD13 ,  2G059DD16 ,  2G059EE02 ,  2G059FF04 ,  2G059FF07 ,  2G059GG02 ,  2G059GG03 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ12 ,  2G059JJ19 ,  2G059JJ26 ,  2G059KK04 ,  2G059MM01 ,  2G059NN02 ,  2G059PP01
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (3)
  • 測定チップ表面への物質固定化方法及び装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-072623   Applicant：大日本印刷株式会社
  • 測定装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-068767   Applicant：富士写真フイルム株式会社
  • 測定チップ
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-379414   Applicant：富士写真フイルム株式会社

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