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J-GLOBAL ID：200903024468109842

反射防止膜等の光学薄膜及びその製造方法

Inventor：
川俣 健

About 川俣 健


Applicant, Patent owner：
オリンパス光学工業株式会社

About オリンパス光学工業株式会社


Agent (1)： 奈良 武
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999013585
Publication number (International publication number)：2000214303
Application date： Jan. 21, 1999
Publication date： Aug. 04, 2000
Summary：
【要約】【課題】 膜にクラックが入ることなく、しかもターゲットが割れることのない成膜を行う。【解決手段】 TiAl金属間化合物をターゲットとし、不活性ガス及び酸素を導入しながらスパッタリングにより形成するTi及びAlの酸化物膜と、MgF2 をターゲットとしスパッタリングにより形成するMgF2 膜と、を交互に積層する。TiAl金属間化合物のため、ターゲットが割れることがなくなる。高屈折率膜がTi及びAlの酸化物膜からなるため、クラックなどが発生することのない良好な耐久性を有した膜となる。
Claim (excerpt)：
基板上にTi及びAlの酸化物膜と、MgF2 膜とを積層したことを特徴とする光学薄膜。
IPC (5)：
G02B 1/11 ,  B32B 7/02 103 ,  B32B 9/00 ,  C23C 14/06 ,  C23C 14/34
FI (5)：
G02B 1/10 A ,  B32B 7/02 103 ,  B32B 9/00 A ,  C23C 14/06 P ,  C23C 14/34 N
F-Term (30)：
2K009AA02 ,  2K009CC03 ,  2K009CC06 ,  2K009DD04 ,  4F100AA06C ,  4F100AA19B ,  4F100AA21B ,  4F100AT00A ,  4F100BA03 ,  4F100BA08 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100EH112 ,  4F100EH662 ,  4F100EJ582 ,  4F100EJ602 ,  4F100JK14 ,  4F100JL00 ,  4F100JM02 ,  4F100JN00 ,  4F100JN06 ,  4F100YY00B ,  4K029BA42 ,  4K029BA50 ,  4K029BB02 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029CA05 ,  4K029CA06 ,  4K029DC04
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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