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J-GLOBAL ID：200903024658874790

フォトレジスト剥離剤組成物

Inventor： 西嶋 佳孝 ,  小谷 武
Applicant, Patent owner： ナガセ電子化学株式会社
Agent (1)： 塩出 真一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994069927
Publication number (International publication number)：1995253678
Application date： Mar. 14, 1994
Publication date： Oct. 03, 1995
Summary：

【要約】 (修正有)【構成】 アルキルアミン、又はアルキルアミンと極性有機溶剤との混合物を主成分とするフォトレジスト剥離剤に、一般式(I)で表わされる酸化防止剤及び一般式(II)で表わされる酸化防止剤の少なくとも1種を0.01〜30重量%添加してなるフォトレジスト剥離剤組成物。(式中、R1,R2,R3,R4はH、ハロゲン、ハイドロオキシ基等、を示す。)(式中、R1はハロゲン、ハイドロオキシ基、アミノ基等、を示す。nは1又は2を示す。)【効果】 毒性の強いシアン化水素の生成を抑制したフォトレジスト剥離剤組成物を得ることができる。

Claim (excerpt)：

アルキルアミン、又はアルキルアミンと極性有機溶剤との混合物を主成分とするフォトレジスト剥離剤に、一般式化1で表わされる酸化防止剤(I)及び一般式化2で表わされる酸化防止剤(II)の少なくとも1種を添加してなることを特徴とするフォトレジスト剥離剤組成物。【化1】【化2】

IPC (5)：

G03F 7/42 ,  C09K 15/18 ,  C09K 15/32 ,  C23C 14/04 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 有機ストリツピング組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-010812   Applicant：アクト,インク.
• 特開昭60-168144
  
• 金属腐食を減少させるための還元剤を含有しているフォトレジストストリッパー
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-268033   Applicant：ジェイティ-ベ-カ-インコ-ポレイテッド
• ポジ型レジスト用剥離液
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-028470   Applicant：東京応化工業株式会社